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  • 模拟偏振敏感的散射过程

    作者:Zemax China 来源:投稿 时间:2018-12-28 17:50 阅读:35617 [投稿]
    这篇文章介绍了如何在OpticStudio中使用一个自定义的DLL模拟偏振敏感的体散射和荧光现象。本文还总结了基于MSP.DLL体散射模型的7个应用示例。

    我们可以从强度分布看出:随着粒子尺寸的增加,与入射光方向相同的正向散射逐渐增强,这也和理论预期相符。

    实例6

    与实例4相似,我们可以在样本纵向的360°方向设置多个单像素探测器来测量相函数分布:


    每个探测器测量得到的强度数据以极坐标图的形式展示,如右图所示,该测量结果显示MSP.DLL计算得到的强度分布与通用的米氏散射强度分布相吻合。

    实例7

    最后我们将展示一个更加通用的偏振散射结果。通过测量来自散射介质平板的背向散射来计算穆勒矩阵(Mueller Matrices,与每个像素相对应)作为空间地图 (Spatial Map)。探测器位于平板的前表面并且只用来接收背向散射光线。一束光正向入射到散射介质的平板上。在进入散射介质后,光线发生多次散射,其中一部分光线最终散射回物空间并被探测器接收:


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