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  • OpticStudio 14.2新版本功能介绍

    作者:佚名 来源:Zemax中国 时间:2014-08-12 00:30 阅读:11891 [投稿]
    OpticStudio 14.2 包含新的功能特性和重要的系统性能提升。

    “功能查找器”也可通过用户界面右上角的新“搜索”窗口获取,“运行功能”由箭头图标表示,而“高亮显示功能”则由放大镜图标表示。


    新的快捷键和快速访问工具栏各项功能中都新增了搜索功能,“零件设计器”也有相当于“功能查找器”的类似功能。

    经许多客户请求后,还提供了 PDF 格式的“帮助系统”   

    用户界面现在除了支持日语、德语和英语之外,还支持中文

    新增优化功能

    GetOperand DDE 数据项目现在可报告多一位小数位,实现了更高的精度(仅限 Professional 和 Premium 版)。

    XENC 和 XENF 优化操作数现在支持波长参数。

    MTFA、MTFS 和 MTFT 优化操作数现在可报告真实数据和虚构数据。

    近轴高斯光束优化操作数现在接受 M2 输入值。

    新增 GBPZ 优化操作数,可计算近轴高斯光束的瑞利范围。

    新增分析功能

    通量 vs 波长分析现在支持 SDF 光源文件(仅限 Premium 版)。

    图像仿真算法拥有极大改善的算法,可处理超广角系统中的畸变   

    物理光学传播窗口现支持“传播报告”选项卡,可直接访问该重要工具(Professional 版和 Premium 版)

    新增了一个按比例打印布局图的选项,以及一个“最佳拟合”打印方向控件。该功能会根据要打印窗口的纵横比,自动选择“横向”或“纵向”模式。两个选项都在“配置选项...图像”下方。

    当保存“分析”窗口到剪贴簿时,或保存为任何支持的文件格式时,会按屏幕上显示的像素大小来保存该窗口。. 

    其它修改

    由于缺少 .NET framework 框架的支持,取消了对导出 EMF (Enhanced Windows Metafile) 格式的图形的支持,该功能已不再可用。

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