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    • 2021-06-07 22:30Essential Macleod基础实验 [技术培训]
         从光学薄膜的理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题出发，为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。
    2021-06-07 15:23三十米望远镜自适应光学系统试验冷却机组交付使用
         中科院理化所正在开展REFR冷却系统整机的最终设计，并已与三十米望远镜项目签订长期合作协议，将主持承担未来至三十米望远镜建成这一冷却系统的全部研发任务。
    2021-06-07 12:04上海光机所提出用于10s-100s PW激光“分步压缩器”新方案 [科技动态]
         中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室提出了一种“分步压缩器”的脉冲压缩新设计。
    2021-06-06 16:55一种比头发直径小的中红外光谱仪 [科技动态]
         一个国际研究小组已经开发出一种比人的头发直径小的中红外光谱仪。
    2021-06-04 16:34大连化物所制备出高性能二维钙钛矿太阳电池 [科技动态]
         中国科学院大连化学物理研究所太阳能研究部薄膜太阳能电池研究组研究员刘生忠团队与陕西师范大学教授赵奎合作，在二维Dion-Jacobson（DJ）钙钛矿成膜控制研究中取得新进展，制备出高效率芳香族二维DJ钙钛矿太阳电池。
    2021-06-04 10:02我国科研团队在深紫外非线性光学晶体的研究中取得进展 [科技动态]
         科研人员通过对类金刚石结构进行结构改造，构建缺陷型类金刚石结构、引入平面共轭基团和引入羟基等策略，获得了第一个羟基碳酸盐深紫外非线性光学晶体——LiZn(OH)CO3。
    2021-06-02 15:47我国科研团队在无掩模光学投影超衍射纳米光刻技术研究中获进展 [科技动态]
         以波长为400 nm的超快激光作为光源，利用DMD生成图案化光场，发展了无掩模光学投影超衍射纳米光刻技术，突破光学衍射极限的限制，获得了仅为激光波长十二分之一（λ/ 12）的32 nm光刻线宽，高效制备了数百微米尺度与纳米尺度并存的跨尺度微纳结构。
    2021-06-01 17:48南大光电高端ArF光刻胶获得突破 未来可用于7nm工艺
         南大光电研发的高端ArF光刻机已经获得了国内某企业的认证，用于55nm工艺制造。
    2021-05-31 11:33无创荧光显微技术能为大脑深度成像 [科技动态]
         来自瑞士苏黎世大学和苏黎世理工大学的研究人员开发出一种称为漫反射光学定位成像（DOLI）的新技术，利用它可以高分辨率、无创观察活体小鼠大脑深部的微血管。
    2021-05-27 12:49西安光机所在集成光频梳研究中取得进展 [科技动态]
         在集成微腔光频梳领域取得进展：利用合成势阱场首次在单个微谐振腔中实现了具有32种重复频率的孤子晶体光频梳，其重复频率覆盖了多个射频波段和太赫兹波段。
    2021-05-27 12:22上海光机所提出在非相干照明条件下透过动态的厚散射体的成像方法 [科技动态]
         中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于深度学习的方法，实现了在非相干照明条件下透过动态的厚散射体成像。
    2021-05-25 20:46干式转移技术精确定位光学质量的碳纳米管 [科技动态]
         来自理化学研究所先锋研究集群和理化学研究所先进光子学中心的研究人员与合作者一起，开发了一种使用 "干式转移技术 "的方法，即一种不使用溶剂的技术辅以精确的方式定位光学质量的碳纳米管。
    2021-05-25 16:39华域汽车4D成像毫米波雷达将量产 能探测180米外的易拉罐
         最新研发的4D成像毫米波雷达，它除了能测定物体的距离、速度、方位角等二维平面信息外，还能测定物体高度和俯仰角度，勾勒出被识别物体在三维空间内的轮廓。
    2021-05-24 16:42硅基高性能光源与光放大器最新进展 [科技动态]
         本文回顾了一些典型光器件比如超窄线宽硅基激光器、硅基锁模激光器和硅基光放大器等，对它们的性能和应用场景做了全面的分析。
    2021-05-24 16:19大连化物所揭示化学激光腔镜薄膜自洁净机理 [科技动态]
         揭示了环境吸附对化学激光腔镜薄膜表面润湿性能的重要影响，并进一步通过引入纯化和钝化处理工艺，实现了对薄膜亲疏水特性的显著调控，为解决环境污染易影响高品质强光元件的损伤阈值和热致形变问题提供了理论基础和实践依据。
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