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光弛1300镀膜机离子源栅网更换后氧化硅与氧化钛匹配系数失衡,请 ..
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光弛1300镀膜机离子源栅网更换后氧化硅与氧化钛匹配系数失衡,请大神帮忙分析一下
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liujun0527
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发表于: 2017-06-07
各位好,最近在生产中发现
镀膜
机固定的2套栅网周期性更换后,内外圈氧化硅与氧化钛
材料
匹配系数失衡,导致
曲线
频谱落差变大,请各大神指导一下从哪些方向上分析改善。
q]C_idK=
[&4+ <Nl'
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发表于: 2017-06-13
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2楼
发表于: 2017-06-27
一楼正解,大家一定要注意的是,离子源的状态会影响膜层的位置均匀性,更换离子源部件或者调整离子源参数都可能会发生楼主那样的情况
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囊中蓄乾坤
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3楼
发表于: 2017-06-30
如果只是镀前轰击的话,会不会影响镀膜的均匀性。遇到过在镀后轰击会引起膜层不均匀的现象。
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拉比熊
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4楼
发表于: 2017-07-05
首先 检测的是 离子源栅网更换是的重复性工作,其次才是MASK
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奔跑的小骏马
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5楼
发表于: 2017-07-22
MASK只是修正钟罩的,而钟罩是不变得。所以我们要从以下几个方面去考虑:
1Dc6v57
1、钟罩是否变形,你可以从钟罩的几个不同的位置去取测试片对比以下特性的差异,有可能是因为钟罩变形,每次取的测试片位置不一致导致特性不停的变动;
Z}0xK6
2、查看离子源的蒸发角度是否发生变化,主要是离子源的倾斜角度,出厂都有参数的。角度变化导致离子分布变化,从而影响特性;
Ri`6X_xU
3、电子枪系统是否发生变化,光斑相对于钟罩的位置等等。
L[9Kh&