UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 Q%eBm_r; (2023-03-16 09:05) >}4]51s
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xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) vf=
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 *Zi%Q[0Me 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 -o_TC PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) ~5NGDT#L*