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    [分享]在反应溅射铝的过程中的打弧问题 [复制链接]

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    离线余登峰
    实习生
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2011-11-27
    在反应溅射铝的过程中的打弧问题，看到的共享一下。
    附件设置隐藏，需要回复后才能看到
     
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    离线zmfu77
    实习生
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    只看该作者 1楼 发表于: 2011-12-16
    如果采用的是直流磁控溅射设备，应该有以下几个原因： [{+ZQd  
    1、靶的两端污染严重，导电性能差，积累大量电荷，造成对真空腔体放电打火。 VZA>ErB  
    2、靶表面污染或有氧化层 "fd'~e$S#  
    3、靶的两端有清微漏水、漏气的情况 + j6^g*  
    4、电源灭弧性能差
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    离线guangbao
    实习生
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    只看该作者 2楼 发表于: 2014-03-09
    看看隐藏了什么？ qNbgN{4  
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    离线caiqiwen
    实习生
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    只看该作者 3楼 发表于: 2014-11-06
    回复看一下附件
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    离线光迹
    助理工程师
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    光券
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    只看该作者 4楼 发表于: 2020-08-20
    隐藏的是什么
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