实验八 真空蒸发镀膜 N;BS;W5I
T2$V5RyX
<fLk\
=
\jcEEIEi
真空镀膜属于薄膜技术和薄膜物理范畴,广泛应用在电真空,电子学、光学、能源开发、现代仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学、以及原子能工业和空间技术中。它可以用来镀制微膜组件,薄膜集成电路,半导体集成电路等所需的电学薄膜;光学系统中需要的反射膜,透设膜,滤光膜等各种光学薄膜;轻工业产品的烫金薄膜等等。由于真空镀膜技术的迅速发展,从而使电子计算机的微型化成为可能,促进了人造卫星,火箭和宇航技术的发展。 =*u:@T=d5
->S6S_H/+&
所谓真空镀膜就是指在真空中将金属或金属化合物沉积在基体表面上。从技术角度可分为40年代开始的蒸发镀膜,溅射镀膜和70年代才发展起来的离子镀膜。束流沉积等四种。真空镀膜能在现代科技和工业生产中得到广泛应用,主要在于它具有以下的优点:①它可用一般金属(铝,钛等)代替日益缺乏的贵重金属(金,银)并使产品降低成本,提高质量,节省原材料。②由于真空分子碰撞少,污染少,可获得表面物理研究中所要求的纯净,结构致密的薄膜。③镀膜时间和速度可准确控制,所以可得到任意厚度均匀或非均匀薄膜。④被镀件和蒸镀物均可是金属或非金属,镀膜时被镀件表面不受损坏,薄膜与基体具有同等的光洁度。 ]CIZF,
<(%cb.^c=N
本实验通过镀铝反射境要达到的目的是:掌握真空蒸发镀膜的原理和操作方法;熟悉金属和玻璃片的一般清洗技术;了解薄膜厚度的光学干涉法测量方法。 b[I;6HW
-S(_ZbeN
h c9?z}
P!JRIw
1预习提要 i%R2#F7I
BkTGH.4G%
真空镀膜是以气体分子动力学为理论基础的技术性强的实验。实验前应复习在高真空高温下固体蒸发的有关知识。预习首先要阅读本书“真空基础知识”部分,掌握本实验所用的真空泵(机械泵,扩散泵),真空计(热偶计,电离计)的原理和使用方法。然后在熟读本实验时,要着重掌握真蒸发镀膜的原理和实验装置的结构;熟悉金属元件 和玻璃片的清洗技术;了解薄膜厚度的光学干涉法测量原理和方法。在初步掌握上述知识和技能的基础上,根据实验内容要求要自拟实验步骤和操作程序,熟练掌握在试验中提高薄膜质量的操作技巧. "[LSDE"(
8/|~E
pd rF/U+
UkY
`&&ic