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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-10
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： R;.zS^LL  
    TW(rK&  
     M}!7/8HUC  
    r50}j  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 RnPJ,Z5s&&  
     UO5^4  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 nmn$$=~)  
     CN#`m]l.  
    相位分布如下图所示： ^2mmgN   
    5u'"m<4  
     ,@tY D(Z  
    AFGWlC#`  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： SouPk/-B80  
    )}\jbh>RH  
     (NyS2 `  
     
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