介绍 z2iWr V'FKgzd 在高约束
芯片上与亚微米波导上耦合光的两种主要方法是
光栅或锥形耦合器。[1]
=F% <W7 耦合器由高折射率比
材料组成,是基于具有
纳米尺寸尖端的短锥形。[2]
{)I&&fSz 锥形耦合器实际上是
光纤和亚微米波导之间的紧凑模式转换器。[2]
>r>pM(h 锥形耦合器可以是线性[1]或抛物线性[2]过渡。
l0PXU)>C 选择Silicon-on-insulator(SOI)技术作为纳米锥和波导的平台,因为它提供高折射率比,包括二氧化硅层作为
光学缓冲器,并允许与集成
电子电路兼容。[2]
*|OUd7P:hU >~O/ZDu/@ |JiN;
O+K /Yj; '\3 [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
!{F\\D/ [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
XnKf<|j6k uHuL9Q^ 3D FDTD仿真 &,QBJx<# T"e"?JSRJ 要
模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间)
RF
[81/w] 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。
79uAsI2-Y 光源在时域中设置为CW( = 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
ZEB,Q~ 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果
Jq:Wt+a F8J\#PW p#N2K{E 仿真结果 * $|9e *-3*51 jW 顶视图展示了锥形硅波导的有效耦合。
D1V^DbUm_ $\aJ.N6rb 底部视图显示了不同位置的模式转换(左:25 um,中间:65 um,右:103 um)
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