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  • 清华大学提出光学元件的局域面形公差和品质评价新方法

    作者:佚名 来源:清华大学 时间:2022-09-19 18:09 阅读:529 [投稿]
    清华大学精密仪器系副教授朱钧团队经过七年的努力,证实了光学元件不同区域有不同的公差要求,并提出了光学曲面的局域面形公差模型。

    研究团队同时提出一种与成像性能直接相关的光学元件品质的精确评价函数RWE,替代传统的RMS或PV值来评价光学元件的品质,并对一系列的具有不同面形误差的元件进行了品质评价(图3)。结果表明,具有相同PV或者RMS值的元件品质是不同的,几何精度较低的元件可能比几何精度较高的元件产生更好的成像质量。RMS相同的光学元件也可以通过RWE区分它们成像质量的高低。对制造检测方而言,无需设计文件就可以独立地对制造后的元件品质进行评估。RWE有助于快速挑选出符合成像要求的元件,并给出不同元件之间的最佳匹配组合。


    图4. 具有相同的PV或者RMS值的元件品质不同

    该研究提出的局域公差框架将为光学系统的制造,特别是为光刻系统和太空望远镜等高精度、大口径的光学系统制造提供新的技术支撑,并将对光学设计和制造领域的理论、技术和标准产生变革性的影响。

    9月8日,上述成果以“光学曲面的局域面形公差和品质评价”(Local tolerance and quality evaluation for optical surfaces)为题发表在《光学》(OPTICA)期刊上。

    朱钧为本文的通讯作者。精仪系2017级博士生邓玉婷和2020级博士生谭益林为本文的共同第一作者,2014级已毕业硕士吴晓飞是本文的共同作者。该研究得到国家自然科学基金项目的资助。

    论文链接:https://opg.optica.org/optica/fulltext.cfm?uri=optica-9-9-1039&id=499461

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    文章点评

    rags_to_rings:理论很好理解,例如成像透镜,不论轴上视场还是边缘视场,镜片表面中心区域和边缘区域对成像像差的影响或者贡献肯定是不一样的,中心和边缘的公差范围自然也就不一样。(2022-09-21)

    lilisrlhj:那在加工过程中如何控制不同区域的局部误差呢?(2022-09-21)