武汉大学：为光学超表面制造难题提供一种全新路径

图2.利用绝缘衬底上的硅材料（SOI）制造可见光超表面像全息片。(a)目标图像——武汉大学校徽； (b)相位分布图；(c)自然光照明时全息图像；(d)手机闪光灯照明时全息图像

值得一提的是，由于超表面的象元仅为400 nm，因此这种使全息图漂浮在样片表面的新技术和传统全息防伪以及纳米印章技术相比，其生成的图案将更加细腻和逼真(后两者的分辨率通常为几微米到十几微米)，因此在实际应用中将会带来诸多好处。具体比如，在信息安全、3D传感、人工智能、VR和AR显示等领域，超表面在保持结构紧凑这一优点的同时，还能够生成信息量更大、空间扩展角度更广的全息图像，从而为新一代信息技术提供更加有力的基础硬件保障。

一代材料、一代器件，新材料的诞生必然打造全新一代的光学系统。科学家们在超表面材料的创新研究，势必将引领新一轮光电子产业的技术革命。如果说过去的五年是超表面材料在实验室的孕育阶段，那么我们有理由相信，未来五年将是超表面材料全面应用的新时代。该成果的研究方案，在物理机制上是全新的，在增材制造量产方面第一次突破了困境，在使用终端方面可以让用户不需再受光学实验室区域的限制，双磁谐振在硅表面跳起了“华尔兹”，共同期待着超表面真正激动人心的4.0大时代的来临。相关成果发表在ACS Nano   [11, 9382-9389  (2017) ] 上。