离子源加速电流是否越大越好-光学薄膜设计,工艺与设备-光行天下-最大的光电技术社区-光学,光电,光机技术及其软件运用交流社区!

首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题

光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 离子源加速电流是否越大越好 [点此返回论坛查看本帖完整版本]

[打印本页]

奔跑的小骏马	2017-12-01 09:41
离子源加速电流是否越大越好现在使用的离子源存在两个问题： N0UZ%,h\ 1、加速电流非常不稳定，突变比较大，数量在10mA以内波动；是否跟离子源工作状态的稳定性有关？ DK(8Ml:k 2、加速电流设置不知道多少数值为佳？ S5wkBdr{ 有没有懂得，指点一二。 &5R-bYGW

rexchou	2017-12-01 10:06
是不是設定在最大輸出功率的60~80%，會不會是比較妥當的~ }*56DX sKDL=c;?j 加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓

ouyuu

2017-12-01 17:22

10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。

一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。
所以最大电流分布是最好的。但是电流大了电压高了，
温度也就高了，膜系的应力会受影响。
可能会产生脱膜，变形等问题。

奔跑的小骏马

2017-12-02 08:02

rexchou:是不是設定在最大輸出功率的60~80%，會不會是比較妥當的~ Ox+}JB [
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06) ;($ 3,d8

加速电压是膜系参数设置的，电流好像可以通过界面设置，但是镀膜过程记录中这个加速电流一直在波动，外观做不好，我怀疑跟这个有关系。但是不能确定，所以问一下你们有没有做过这些验证。

奔跑的小骏马

2017-12-02 08:03

ouyuu:10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 vA,tW,
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 8:t1%O$
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 J|[`8 *8
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 Q4&<RWbT^
....... (2017-12-01 17:22) %dA7`7j

膜层倒是没有受多大的影响，但是外观感觉不太稳定，会不会与加速电流波动有关啊？

ouyuu	2017-12-04 00:36
外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ MA5BTq<& 原因不一样的。

gaofei5588	2017-12-06 16:51
我以前有一个类似的情况：我是AR气瓶端接口处漏气，使MFC气流量不稳定，但beam电流是稳定的，镀出的膜色也不稳定。你那个情况beam不稳，折射率有偏差。

ouyuu

2017-12-06 22:50

10mA的变化不算什么。如果设定是1000mA的话，也就1%左右。
这点变化量比伞差还小，根本不可能引起折射率问题。

漏气也不太可能造成气流不稳。
气流是MFC控制的，而漏点在MFC前面，漏不漏气MFC一样控制。
真正的原因在气体纯度变化了，空气里大部分是氮气。
你镀的氧化物材料变成了部分的氮化物材料。

奔跑的小骏马	2017-12-09 07:57
ouyuu:外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ W8 mco 原因不一样的。 (2017-12-04 00:36) .\>I- [13 kt*h 外观就是点子，具体是灰尘还是啥，还真不好说，呈现出来的是密集型的小点子一样。

ouyuu	2017-12-09 19:00
点子更可能是中和器引起的。 q"[8u ]j 中和器多维护，点子就会少很多。

查看本帖完整版本: [-- 离子源加速电流是否越大越好 --] [-- top --]