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奔跑的小骏马	2017-12-01 09:41
离子源加速电流是否越大越好现在使用的离子源存在两个问题： cyc>_$/;1 1、加速电流非常不稳定，突变比较大，数量在10mA以内波动；是否跟离子源工作状态的稳定性有关？ )+B=z}:Nfz 2、加速电流设置不知道多少数值为佳？ )kA2vX^=Z 有没有懂得，指点一二。 u[[/w&UV.,

rexchou	2017-12-01 10:06
是不是設定在最大輸出功率的60~80%，會不會是比較妥當的~ d<Dn9,G fv\|%Ocm 加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓

ouyuu

2017-12-01 17:22

10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。

一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。
所以最大电流分布是最好的。但是电流大了电压高了，
温度也就高了，膜系的应力会受影响。
可能会产生脱膜，变形等问题。

奔跑的小骏马

2017-12-02 08:02

rexchou:是不是設定在最大輸出功率的60~80%，會不會是比較妥當的~ (c 1u{
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06) vB]3Xb3a

加速电压是膜系参数设置的，电流好像可以通过界面设置，但是镀膜过程记录中这个加速电流一直在波动，外观做不好，我怀疑跟这个有关系。但是不能确定，所以问一下你们有没有做过这些验证。

奔跑的小骏马

2017-12-02 08:03

ouyuu:10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 A!Knp=Gw
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 M9g~lKs'
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 hg$qbeUl
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 tCd{G c
....... (2017-12-01 17:22) (rau8

膜层倒是没有受多大的影响，但是外观感觉不太稳定，会不会与加速电流波动有关啊？

ouyuu	2017-12-04 00:36
外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ jsK\|D{m? 原因不一样的。

gaofei5588	2017-12-06 16:51
我以前有一个类似的情况：我是AR气瓶端接口处漏气，使MFC气流量不稳定，但beam电流是稳定的，镀出的膜色也不稳定。你那个情况beam不稳，折射率有偏差。

ouyuu

2017-12-06 22:50

10mA的变化不算什么。如果设定是1000mA的话，也就1%左右。
这点变化量比伞差还小，根本不可能引起折射率问题。

漏气也不太可能造成气流不稳。
气流是MFC控制的，而漏点在MFC前面，漏不漏气MFC一样控制。
真正的原因在气体纯度变化了，空气里大部分是氮气。
你镀的氧化物材料变成了部分的氮化物材料。

奔跑的小骏马	2017-12-09 07:57
ouyuu:外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ PMz{8 F 原因不一样的。 (2017-12-04 00:36) Ti9:'I p[af[! 外观就是点子，具体是灰尘还是啥，还真不好说，呈现出来的是密集型的小点子一样。

ouyuu	2017-12-09 19:00
点子更可能是中和器引起的。 onWYT}c{ 中和器多维护，点子就会少很多。

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