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光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 离子源加速电流是否越大越好 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

奔跑的小骏马 2017-12-01 09:41

离子源加速电流是否越大越好

现在使用的离子源存在两个问题: !o_eK\p  
1、加速电流非常不稳定,突变比较大,数量在10mA以内波动;是否跟离子源工作状态的稳定性有关? ``VE<:2+  
2、加速电流设置不知道多少数值为佳? 3I~.'>Pd  
有没有懂得,指点一二。 *Ic^9njt  
rexchou 2017-12-01 10:06
是不是設定在最大輸出功率 的60~80%,會不會是比較妥當的~ ki@C}T5  
HB5-B XBU  
加速電流我不清楚能不能設定,參數那邊我只知道可以設定加速電壓
ouyuu 2017-12-01 17:22
10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 xlwf @XW  
加速电流变化一般是气体流量的问题,气体流量是受真空压力变化波动的。 sV{\IgH/x  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 (P-^ PNz&  
*(q?O_3,b  
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 X coPkW  
所以最大电流分布是最好的。但是电流大了电压高了, 5yoi;$~}_0  
温度也就高了,膜系的应力会受影响。 ( s4W&  
可能会产生脱膜,变形等问题。
奔跑的小骏马 2017-12-02 08:02
rexchou:是不是設定在最大輸出功率 的60~80%,會不會是比較妥當的~ UG`~RO  
加速電流我不清楚能不能設定,參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06)  ~\NQkaBkY  
~v2(sRJ  
加速电压是膜系参数设置的,电流好像可以通过界面设置,但是镀膜过程记录中这个加速电流一直在波动,外观做不好,我怀疑跟这个有关系。但是不能确定,所以问一下你们有没有做过这些验证。
奔跑的小骏马 2017-12-02 08:03
ouyuu:10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 3h.,7,T  
加速电流变化一般是气体流量的问题,气体流量是受真空压力变化波动的。 c;q=$MO`  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 rMIX{K)'f  
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 9;{(.K  
....... (2017-12-01 17:22)  BSHS)_xs  
c$ib-  
膜层倒是没有受多大的影响,但是外观感觉不太稳定,会不会与加速电流波动有关啊?
ouyuu 2017-12-04 00:36
外观?指颜色还是发雾,或者是灰尘? dYD;Z<l  
原因不一样的。
gaofei5588 2017-12-06 16:51
我以前有一个类似的情况:我是AR气瓶端接口处漏气,使MFC气流量不稳定,但beam电流是稳定的,镀出的膜色也不稳定。你那个情况beam不稳,折射率有偏差。
ouyuu 2017-12-06 22:50
10mA的变化不算什么。如果设定是1000mA的话,也就1%左右。 v+{{j|x=  
这点变化量比伞差还小,根本不可能引起折射率问题。 $[`rY D/.  
-DHzBq=H  
漏气也不太可能造成气流不稳。 #3_g8ni5X  
气流是MFC控制的,而漏点在MFC前面,漏不漏气MFC一样控制。 M.y!J  
真正的原因在气体纯度变化了,空气里大部分是氮气。 b3>zdS]Q  
你镀的氧化物材料变成了部分的氮化物材料。
奔跑的小骏马 2017-12-09 07:57
ouyuu:外观?指颜色还是发雾,或者是灰尘? >H;m[  
原因不一样的。 (2017-12-04 00:36)  7Dssr [  
*LBF+L^C%  
外观就是点子,具体是灰尘还是啥,还真不好说,呈现出来的是密集型的小点子一样。
ouyuu 2017-12-09 19:00
点子更可能是中和器引起的。 [Uq`B &F:  
中和器多维护,点子就会少很多。
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