| 光杆司令 |
2017-05-09 19:21 |
各種雜散光分析工具介紹
摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。 :y8wv|m
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含： Kfk/pYMDq
* 介紹雜散光 iz5WWn^
* 轉換序列式設計到非序列模式 -$+`v<[r
* 設計鎖定工具 18];fC
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 $9Asr07
* 用 Filter String 篩選光路徑 59Lmv
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* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 xji2#S%
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文章發布時間：April 23, 2017 5f Dnr&DR
文章作者：Michael Cheng 1:VbbOu->V
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簡介 5*IfI+}
使用者用序列模式設計鏡頭，處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例： g}Esj"7
[attachment=76856] ZA
Xw=O5
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在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例： } J-+^
[attachment=76857] [(PD2GO+
w0!4@
TX7 ]$Wj
開啟範例檔 V detY\
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx <Zn -P
作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 YH ^h ?s
[attachment=76858] j@4AY}[tX
+8~C&K:
QM 'Db`B
設計鎖定工具 -`< KjS
接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。 k7\
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粗略來說，這個工具所執行的步驟如下： f9FLtdh
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* 開啟 Ray Aiming *D6X&Hg&5
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size (M,IgSn9
* 改為 Angle 或 Object Height oGXndfd"
* 固定表面孔徑：Circular Aperture h(1o! $EU2
* 移除漸暈係數 E3==gYCe*
關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。 j!;y ! g
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[attachment=76859] ne (zGJ d
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產生關鍵光線組 By7? <A
在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下： : ZWKrnG
k;W`6:Kjp
[attachment=76860] S#wy+*
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轉換到非序列 Vim*4^[#L
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。 n13#}i {tm
有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件 L/sMAB
(;.wsz &K
[attachment=76861] j|/4V
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按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。 isiehKkD
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[attachment=76862] U'K{>"~1a
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非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖： 01^+HEbm
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[attachment=76863] bxrT[]
`HO_t ek
我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下： +t hkx$o
{BS}9jZx
[attachment=76864] 1O{(9nNj
KqI<#hUl
檢查關鍵光線組的狀況 bB->7.GXu
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 ?n0Z4 8%
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[attachment=76865] X {YY)}^
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分析雜散光所需的設定 & u Mx*TTY
在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。 "xK#%eJjWd
首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。 6#SU fK;
Jdc{H/10
[attachment=76866] ah9P
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然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。 NQpC]# n
"AcC\iq
[attachment=76867]
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最後一步是把探測面的像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。 vv
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SE7mn6,%\
[attachment=76868] i]
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初步追跡結果 *&nIxb60b{
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。 `:>N.9'o
注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 =Sp+$:q*
mQka?_if)
[attachment=76869] 92 oUQ EK
Krw' |<
追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。 CAT{)*xc
JV`"kk/
[attachment=76870] FD[o94` %
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並且設定視窗如下圖。 49iqr P'
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[attachment=76871] kIwq%c ;
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可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 r >;( \_@
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[attachment=76872] pt_]&3\e
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使用Filter String IDK~
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現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能（下圖中紅框框起來的部分）。 %F2T`?t:
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[attachment=76873] -SlAt$I J
X@pc L{T!
接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 k((kx:
現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。 eZdFfmYW^R
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[attachment=76874] I1 +A$<Fa
[R(d Cq>
此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。 lKBI3oYn
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[attachment=76875] .$U=ng j\t
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[attachment=76876] - ,qGEJ
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給透鏡加上鍍膜 ql I1<Jx
為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。 o\N^Uu
這裡我們在 W_bA.z T{
物件6的Face 2以及 Pah*,
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 ^ ~kf o|
RHu4cK!5
[attachment=76877] ?W\KIp \Kn
v`\ CzT
再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 5 D[`nU}
'byao03
[attachment=76878] jP31K{G?
T?KM}<$(O
%4x,^ K]
分析特定區域的光 (使用Filter String) Sd *7jW?
初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？ "\O{ !Hj8
p>1Klh:8.'
[attachment=76879] TUX:[1~Nf[
i;<K)5Z
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。 7e:7RAX
現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。 }+fBJ$
FPkig`(3
[attachment=76880] Z|BOuB^
V>"N VRY
現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。 e/Y& d9`
I
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 !|-:"hE1h
J:dNV <A^
[attachment=76881] $%z M Z
"Xj>dB1~
然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。 -ze@~Z@
fO}Y$y\q
[attachment=76882] uiq;{!dop
, ik\MSS
注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。 _/5xtupxE
i|N(= Z=
回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 jTN!\RH9NF
但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。 r?R!/`f
根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 DIWcX<s
P`y 0FKS
[attachment=76883] V /t-
]64?S0p1c!
[attachment=76884] fH 0&Wc3yC
0kL
tL!3
進階路徑分析 WO+_ |*&
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。 ,S7M4ajVZB
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 +.|8W !h`1
e[%g'}D:-
[attachment=76885] LLJsBHi -
dUP8[y
分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 }>?"bcJ
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 .!Os'Y9[ ,
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。 $jN,] N~
PHqIfH [
[attachment=76886] JDm7iJxc_
NplkhgSj
啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 S*a_
? q hme
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 (\ Gs7
?Q/9aqHe;
[attachment=76887] wIK&EGQ
S@vLh=65
[attachment=76888]
Y 9~z7
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[attachment=76889] S1W(]%0/
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[attachment=76890] 28d=-s=[
r?wE ;gH
（转自：中文版 Zemax Forum ）
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