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2006-09-12 14:09 |
半导体激光器的设计和工艺(中科院)分享
半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 K!l5coM iO;
7t@]- 一. 半导体激光器的基本结构 P=G3:eX •1.半导体双异质结构 Q#zmf24W •2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) Pg7Yp2)Oli •3. 侧模控制(基侧模) d m%8K6| •4.横模控制 <1M-Ro?5k •5. 动态单模半导体激光器 Ozf@6\/t •6. 波长可调谐半导体激光器 Kx JqbLUC •7.长波长VCSEL的进展 r",GC] •8.微腔激光器和光子晶体 SByW[JE •9.半导体激光器材料的选择 y"wShAR FzC'G57Kl 二.半导体光波导 jWfa;&Ra •1. 平板波导的模式,TE和TM模 S|+o-[e8O •2. 光限制因子和模式增益 FaJ &GOM, •3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 5l*&>C[(i •4. 半导体激光器镜面反射系数 nzeX[* •5. DFB激光器的藕合模理论 jRV/A!4 •6. DFB半导体激光器的一维模拟 SasJic2M •7. 等效折射率近似 *-p}z@8 •8. 数值模拟 :*\P n!r _:27]K: 三.半导体中的光跃迁和增益 h 9W^[6 •1. 费米分布函数及跃迁速率 !g2+w$YVa •2. 电子波函数及跃迁矩阵元 P7~ >mm+ •3.简约态密度及增益谱 #>+ HlT •4.模式的自发辐射速率 cYt!n5w~W •5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 `PH{syz •6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 pyvSwD5t •7.增益谱峰值的近似表达式 cExS7~* Th%Sjgsn 四. 速率方程和动态效应 a:6m7U)P#5 •1.单模速率方程及基本物理量 P";'jVcR •2.稳态输出 U/NoP4~{ •3. 共振频率和3dB带宽 Ph>%7M% •4. 载流子输运效应对带宽影响 ^gnZ+`3 •5. 开启延迟时间 V~5jfcd •6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 Q'0d~6n&{ •7. 自发辐射引起的噪声 ~$?ZK]YOrx •8. 相对强度噪声 }pu27F)& •9. 模式线宽 @MCg%Afw •10. 多模速率方程 `W*U4?M '."ed%=MC 五.半导体激光器的基本工艺和特性 z' >_Mc6 1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 kPLxEwl 3.激光器寿命 <e</m)j 4.激光器阈值电流的温度特性 pIX`MlBdF e^D]EA]% 《半导体激光器的设计和工艺》全部内容pdf文档件附件,下载以后大家记得回复支持!
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