| piaodongdewo |
2014-10-09 12:07 |
第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014)
第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014, the 3rd International conference on Frontiers of Optical Coatings)将于2014年10月20日-24日在上海举行。 Z;/$niY G` XC FOC是在亚洲举办的最高水平的国际光学薄膜学术会议。自2009年起每3年举办一次,本次会议旨在汇集全球学者、研究技术人员及工业界人士,促进国内外光学薄膜研究机构和工业界的学术交流,讨论光学薄膜领域的最新进展及其前沿应用。 %a+mk
E VHJM*&5 会议详情:http://foc.tongji.edu.cn/index.php?classid=5971 2;a(8^n .Z:zZ_Ev 会议时间: 2014年10月21-23日 %w7u]-tR ?']5dD 会议地址: 上海市四平路1239号同济大学物理馆701 aE;le{|!({ YG[;"QR 讯技展位号: A10 u_(VEfs4 '(bgs 参展产品推荐: InXn%9]p] 9l,a^@Y: Essential Macleod光学薄膜分析与设计软件 p2Zo _8Kx6s% Essential Macleod是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包,可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行,并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求,从简单的单层膜到严格的分光膜;也能对波分复用(WDM)和密集波分复用(DWDM)滤波片进行测评;可以从头开始设计也可以优化已有的设计;可以勘测在设计中的误差,也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 'u4<BQVV[ OxI/%yv-c 核心模块的功能: "#[!/\=?: Dn&D!B •计算给定膜系的特性 ![]``g2 4RSHZAJg •对给定特性目标要求优化膜系设计 vVE2m=!v :8CvRO*< •维护材料的光学常数 91=OF*w =|3fs7 •对已有设计进行分析 &l3iV88 1
$/%m_t •膜系设计的合并分析 CC#;c1t
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