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2014-10-09 12:07 |
第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014)
第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014, the 3rd International conference on Frontiers of Optical Coatings)将于2014年10月20日-24日在上海举行。 Ctu?o+^;z bn9;7`>. FOC是在亚洲举办的最高水平的国际光学薄膜学术会议。自2009年起每3年举办一次,本次会议旨在汇集全球学者、研究技术人员及工业界人士,促进国内外光学薄膜研究机构和工业界的学术交流,讨论光学薄膜领域的最新进展及其前沿应用。 mI1H! X` YwP/D 会议详情:http://foc.tongji.edu.cn/index.php?classid=5971 2f:^S/.A =r.
>N\ 会议时间: 2014年10月21-23日 OS-f(qXd+ ~l E _L1-c 会议地址: 上海市四平路1239号同济大学物理馆701 ro~+j}* |UUdz_i!: 讯技展位号: A10 hVpCB, N@T.T=r 参展产品推荐: 9)dfL?x8V{ J5M+FwZq Essential Macleod光学薄膜分析与设计软件 u{H?4|'( io2)1cE&f Essential Macleod是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包,可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行,并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求,从简单的单层膜到严格的分光膜;也能对波分复用(WDM)和密集波分复用(DWDM)滤波片进行测评;可以从头开始设计也可以优化已有的设计;可以勘测在设计中的误差,也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 \_6OC Vil Q9F) 核心模块的功能: B2=\2< },$0&/>ft •计算给定膜系的特性 IZ,oM!Y uRV<?y% •对给定特性目标要求优化膜系设计 7*+]wEs )(M7lq.e7 •维护材料的光学常数 hf6f.Z 6 ,ANNj •对已有设计进行分析 g2cVZ!GIj A;XOT6jv? •膜系设计的合并分析 [IZM.r`Z
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