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2014-02-08 15:17 |
2014年光学技术大会最新日程发布
n\D3EP<s 2014年慕尼黑上海光博会同期活动 rXR}]|;> 地点:上海新国际博览中心大会官网 ;r
XhK$ j[o5fr)L 亚洲领先光学会议PHOTONICS CONGRESS CHINA将与慕尼黑上海光博会再次同期举办!PHOTONICS CONGRESS CHINA议题丰富,主题包括激光加工、先进激光器、光学技术、红外线成像技术、激光安全、光束分析等最新研发成果和进展,全面覆盖多个激光和光电子领域。大会和慕尼黑上海光博会一起将科学、研发和产业应用紧密结合,赋予科研生产更多独特的实用价值。2013年光学技术大会共吸引了1,810 名听众蜂拥到与会聆听! q{t"=@lX01 ;o0o6pF 一、 第九届国际激光加工技术研讨会(LPC 2014) /,Sd dj0`Q:VZ 会议时间:2014年3月18-20日 59I} 会议地点:上海新国际博览中心E2-M17-18 S.Fip_ 大会主题: _*w}"\4_ ? 先进激光光源与光电子元件 D7Nz3.j ? 微纳米技术与超快激光精密加工 X@7K#@5 ? 增材制造与激光3D打印 \w=7L-
8 ? 新型控制技术和系统在激光加工中的应用 k^PqB+P! 论文征集: vDAv/l9 科研论文:所有符合会议议题的学术报告、技术研究、科研成果,未在任何国内外期刊上发表过。此部分论文可在《应用激光》发表。经专家评审的优秀论文可选择将推荐至到国内EI收录核心期刊和美国《Journal of Laser Applications (JLA)》全文发表! 4$+9k;m' 工业应用类:所有符合会议议题的,在应用领域可得到技术应用的研究内容。请在线提交论文时对应以上分类进行提交。在接到审核通过通知后请提供完整论文。 @tLoU% ,`JXBI~ t(:6S$6{e 联系方式: >MIp r d#eHX|+ !OJSQB, ~Zd n#z\ 二、 光学前沿—第九届全国激光技术与光电子学学术会议暨国际激光与光学技术论坛 \T_?<t,UT S hM}w/4 会议时间:2014年3月18-19日 &sx|sLw) 会议地点:上海新国际博览中心E1 M16 (主会场)、E1-M12(分会场) {M?!nS6t 会议文章出版:Chinese Optics Letters(增刊,EI收录)、《光学学报》(正刊或增刊,EI收录)、《中国激光》(正刊或增刊,EI收录)、《强激光与粒子束》(正刊,EI收录)、《光子学报》(正刊,EI收录)、《激光与光电子学进展》正刊(中文核心期刊,最快60天出版)、《光学与光电技术》正刊。 \'L6m1UZ% 会议主题/征稿范围: C9}2F{8 r4xq%hy 1. 激光器与激光应用技术 s
`r tr 2. 激光生产与先进制造技术 nA]dQ+5sT 3. 光学检测技术 /m;w~-N 4. 光学与光学制造技术 EN%Xs578 xUD$i?3z e-os0F 三、 展商论坛:光学测量和质量控制技术论坛 6zLz<p? <>JDA(F" 慕尼黑上海光博会期间的展商论坛:光学测量和质量控制技术论坛中,演讲企业将以其最新技术与产品为主题,结合演讲与展示,向参会嘉宾呈现其最新研究成果。展商论坛作为慕尼黑光博会-光学技术大会的一部分,将吸引众多光学企业及光学研究领域专业人士参加,为各企业向用户推广最新技术与产品提供了绝佳的展示平台! @$79$:q N 会议时间:2014年3月19日 I$`Vw > 会议地点:上海新国际博览中心,E1馆M11会议室 ytmlG% 会议主题: -7">A~c 测量技术/系统在汽车行业的应用 NCvwg 测量技术/系统在材料加工行业的应用 G< | |