| saa0125 |
2013-09-04 16:43 |
Zemax 設計求助
針對機構進行光線追跡的模擬，但是使用非序列設計時利用poly object 功能進行機構的繪製。 Tlv|To
在輸入各面的資訊時均將所需反射或穿透的地方進行設定，但是光源放上去跑出來卻是原來應該反射的地方沒有反射 d(cYtM ,P
希望穿透的地方卻發生反射 LB 5EGw
請教各位大大是不是在poly object 編輯設定上有問題 `[R:L.H1
r_2VExk
EX: R 1 2 3 4 0 (我設定反射面是這樣設定，假設點1 2 3 4 構成平面並使用參數0進行反射) kO O~%|1CP
T 5 6 7 8 0 (我設定穿透面是這樣設定，假設點5 6 7 8 構成平面並使用參數0進行穿透) REe%>|
P)
0=@{(
請各對大大協助解決問題~~感激不盡 X([n> w
<Ucfd
G&Lp
附件模擬的圖形資料~未標註的面均為穿透面~ N =}Z #
!!Gi.VL
[attachment=50959]
|
|