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2013-08-25 13:38 |
欧美设备及材料推荐:溅射/蒸发镀膜设备、金刚石薄膜合成设备、金刚石窗口、光学软件
产品推荐(光学软件、镀膜设备、金刚石窗口、金刚石合成设备): B7sBO6Z$J a%`L+b5-$ 1. 光学设计软件(照明设计、镜头设计、杂光及鬼像分析等)、物理光学设计软件及服务(DOE、HOE等);激光模拟仿真软件(固体、半导体、光纤激光器设计);激光与物质相互作用模拟。 Pfd%[C/vdm X]dN1/_ 2. 散射测量仪(BSDF/BRDF)、非球面干涉仪; RFq=`/>dG qHPinxewx 各种蒸发、溅射镀膜设备(Evaporator / Sputter) 9%riB/vkrF ——热丝,电子束,电感;Reactive, 直流, Confocal, 射频,non-reactive C8=r sh ——金属膜(Al, Au, Ge, Ni, NiCr, Pd, Pt, Ti, Ta, W, Mo, Nb, NbN, NbTiN) 5?|y%YH;R\ ——光学膜、单/多层膜、磁性膜、氧化膜、非金属膜等 @\+UTkl8 ——衬底旋转,衬底倾斜——角度精度0.0005度、重复性0.01度 O`Htdnu -----高真空(10^-7 至10^-8 Torr)、超高真空(10^-11Torr) l-5O5|C N|8^S PECVD——过渡金属膜、氮化硅(Si3N4),、氧化硅 (SiO2)、氧氮化硅、类金刚石; r]Lj@0F>8 Ion milling——PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等材料处理 iH>b"H> plasma treatment设备------刻蚀、灰化、功能化处理(亲水、疏水)、超洁净 {c7@`AV] - %?>1n 3. 金刚石窗口及其合成设备MPCVD / HFCVD: |)mUO:* ——合成金刚石多晶(窗口)材料(紫外窗口、红外窗口、激光窗口、微波窗口) 5@n|uJA ——合成超纳米晶金刚石:用于MEMS,bioMEMS,RF MEMS,3D structures. #%{ MPCVD可沉积直径8-12英寸光学级金刚石窗口/超纳米晶 NOf{Xx<#k R<^E?FI
——合成单晶金刚石(用于单晶刀具、宝石、laser crystal、量子计算和量子信息) h;mOfF 高纯度单晶(杂质浓度低于1ppb)、高电子迁移率掺杂金刚石(B, N, P) Z7 ++c<|p v!=e]w6{ ——其中HFCVD可以沉积的0.5m2金刚石薄膜,金刚石罩; S_s;foT TN/&^/ ——提供金刚石/蓝宝石金属化、钎焊服务。 M
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