光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

产品关键词：光致发光成像光谱光谱成像荧光光谱仪高光谱成像显微高光谱成像荧光高光谱成像仪

光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

sVLvnX, 光谱范围*	@T'^V0!-q: 400-1000nm
'0<d9OlJ} 光谱分辨率	aAo\|3KCs 2nm
~wvt:E,fC 空间分辨率	+HK4sA2; 次微米
;FPx 显微镜	CWj_K2=d Olympus BX51
i]JTKL{\q 物镜	zTz}H*U 20X 50X or 100X
ewZ?+G+m 相机*	o-,."\|6 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
54 lD+%E 样品最大尺寸	JzyCeM = 10cm X 10cm
a:kAo0@":j X，Y轴行程	*Rgr4-eS 76mm X 52mm
xEb>6+-F@ Z轴最小位移	DeO-@4+qKd 1um
U( YAI%O 扫描速度	1'kO{Ge*p: 150ms
=~D? K9o 波长精度	zp:dArh0 0.25nm
qt"D!S_ 激发光源*	twT/uBQ4a 355nm 532nm 780nm
_jWs(OmJ 高光谱数据格式	mw@Pl\= FITS HDF5
k(gbUlCc 图像格式	rTPgHK]?l JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
W5*ldXXk 软件	BI'>\hX/V PHySepc^TM分析和控制软件
b?H"/Mu. 尺寸	dkQ4D2W*\ 76cm X 76cm X 76cm
]\E"oZ 重量	( }-*irSsj 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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