光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

\&5@yh 光谱范围*	j/D)UWkR 400-1000nm
`M ygDG+u 光谱分辨率	^Nw]'e3 2nm
b@/ON}gX 空间分辨率	k8e"5 he 次微米
rR@n> Xx 显微镜	~8t}*oV Olympus BX51
@/~k8M/ 物镜	]B3FTqR{i 20X 50X or 100X
i\;&CzC: 相机*	9*;isMkq< 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
V6MT>T 样品最大尺寸	#0g#W 10cm X 10cm
S}^s5ztm X，Y轴行程	~'J =!Xy 76mm X 52mm
I`W-RWZ Z轴最小位移	:ECK $Cu 1um
!X%!7wsc 扫描速度	+?Jk@lE< 150ms
_MbVF>JOx 波长精度	W}k?gg= 0.25nm
X/-KkC 激发光源*	Kn#xY3W6 355nm 532nm 780nm
kgI=0W> 高光谱数据格式	$Kz\ h#} FITS HDF5
AKKU-5 B9c 图像格式	d]ZC8<`w JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
'Z2N{65 软件	N~}v:rK>g PHySepc^TM分析和控制软件
h0GdFWN 尺寸	9U9c"'g 76cm X 76cm X 76cm
:+ 9Ft> 重量	V> a3V' 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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