光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

N .SszZh 光谱范围*	XCt}>/"s\h 400-1000nm
!WIL\|\jbh 光谱分辨率	I 4EocM= 2nm
yC _X@o-n 空间分辨率	,v^it+Jc' 次微米
M,6AD] 显微镜	[}VEDx Olympus BX51
Oi{jzP 物镜	)qxL@w. 20X 50X or 100X
dFS+O;zE\ 相机*	@ojn<7W 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
Aimgfxag 样品最大尺寸	sDwSEg>#B 10cm X 10cm
1 8&^k\| X，Y轴行程	WRNO) f< 76mm X 52mm
pQqZ4L6v Z轴最小位移	t<`BaU 1um
irL ehPX9 扫描速度	au#IA 150ms
i.'f<z$< 波长精度	{j(,Q qB;f 0.25nm
k!!o!rBS 激发光源*	E>7[ti_p5 355nm 532nm 780nm
LUCpZ3F1 高光谱数据格式	muY4:F.C( FITS HDF5
A\?O5#m:$ 图像格式	K~Xt` JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
"q%Q[^b 软件	#kxg\|G[Ol PHySepc^TM分析和控制软件
UyvFR@ 尺寸	dM$]OAT 76cm X 76cm X 76cm
` bg{\ .q 重量	gE%-Pf~ 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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