光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

`c\|H^RC 光谱范围	B.smQt 400-1000nm
>\|gXE> 光谱分辨率	]JvjM, 2nm
-e?n4YO*\ 空间分辨率	1\|s`z 次微米
J5O/c,?g 显微镜	/VP #J<6L Olympus BX51
@[`]w`9Q7 物镜	MtgY `p 20X 50X or 100X
#c"05/=A 相机*	b$pCp`/MT 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
ew~uOG+ 样品最大尺寸	PR AP~P&^ 10cm X 10cm
3u 7A( X，Y轴行程	%KN2iNq 76mm X 52mm
Xr4k]'Mg Z轴最小位移	??\|,wIRz 1um
?5;wPDsK 扫描速度	WP Gp(Xw 150ms
~BgYD)ov 波长精度	;9-J=@KY4 0.25nm
BeD>y@ it 激发光源*	Jk:ZO\|'Z 355nm 532nm 780nm
l}T@Cgt 高光谱数据格式	EM1HwapD FITS HDF5
Sj*W\|n\gj 图像格式	#N'9F&:V$ JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
YguW2R=6] 软件	M1k_ldP PHySepc^TM分析和控制软件
O-pH~E 尺寸	3j[<nBsn. 76cm X 76cm X 76cm
:uqEGnEut 重量	kQ_Vj7 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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