光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

8z0j}xY% 光谱范围*	rCU f,) 400-1000nm
)#n0~7 & 光谱分辨率	LsH&`G^< 2nm
A:PQIcR;V 空间分辨率	^ZV1Ev8T6 次微米
MkgeECMf 显微镜	d 4w+5H"u Olympus BX51
)'3(=F$+l 物镜	(8qD'(@ 20X 50X or 100X
4>eY/~odq] 相机*	$*w]]b$Dn 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
#$7d1bx 样品最大尺寸	xO?w8*d 10cm X 10cm
x>:~=#Vi X，Y轴行程	H~IR:WOw 76mm X 52mm
{U@&hE - Z轴最小位移	xj`ni G 1um
Z-X(.Q 扫描速度	{R<0'JU 150ms
2L"$p? 波长精度	&XAG\| # 0.25nm
8g0By;h; 激发光源*	)7!q>^S{B 355nm 532nm 780nm
j_H"m R 高光谱数据格式	NwPGH=V FITS HDF5
Lt`d {s 图像格式	hM$K?t JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
=v^LShD2^ 软件	'-C%?*ku PHySepc^TM分析和控制软件
F/,K8<\|r> 尺寸	?^I\e{),c 76cm X 76cm X 76cm
r9nH6 Md\ 重量	7Nx5n< 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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