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ZEMAX光学系统设计高级培训班 北京6月25日-28日
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optotek_gk
2012-05-10 17:19
ZEMAX光学系统设计高级培训班 北京6月25日-28日
南京光科信息技术有限公司 光学系统设计高级培训课程
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培训地点:北京理工大学
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培训时间:2012年6月25日-6月28日 共4天
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课程费用:¥4500元 课程编号:ZEMAX AD
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课程内容:ZEMAX高级优化 激光物理光学POP ZEMAX加工公差分析 ZPL宏语言编写 DLL动态链接库自定义面型 ZPL光纤公差分析
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培训关键词:光学设计 高级培训 ZEMAX软件 光学软件 公差分析 ZPL宏语言 ZEMAX自定义面型 光科独创核心技术
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课程特色及对象:
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高级课程内容,针对具有一定经验的光学设计及ZEMAX光学工程师
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主要针对企业中的ZEMAX软件使用的高级工程师
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深入讲解光学镜头ZEMAX优化技术及技巧,详细讲解ZEMAX计算光学镜头的加工工艺及公差分析
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ZPL宏语言编写,分享及深入剖析多个光科OPTOTEK独创ZPL扩展的ZEMAX功能
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报名电话: 025-84305866 陈小姐
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课程内容大纲
NOTE: 课程内容为光科公司多年经验设置, 光科公司版权所有
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上课时间
第一天
第二天
第三天
第四天
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9:00-10:30
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ZEMAX的优化方法
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优化及评价函数的使用
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ZEMAX全局搜索建立初始结构
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ZEMAX物理光学传播POP
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激光二极管在ZEMAX中的设置
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LD参数针对ZEMAX的转换
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ZEMAX的高级公差
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用户自定义公差
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