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2012-05-10 17:19 |
ZEMAX光学系统设计高级培训班 北京6月25日-28日
南京光科信息技术有限公司 光学系统设计高级培训课程 )9'eckt 培训地点:北京理工大学 G8xM]'y 培训时间:2012年6月25日-6月28日 共4天 ;%"YA 课程费用:¥4500元 课程编号:ZEMAX AD t}m6]; _22;hnG<iy 课程内容:ZEMAX高级优化 激光物理光学POP ZEMAX加工公差分析 ZPL宏语言编写 DLL动态链接库自定义面型 ZPL光纤公差分析 XQCu\\>; Uw R,U#d 培训关键词:光学设计 高级培训 ZEMAX软件 光学软件 公差分析 ZPL宏语言 ZEMAX自定义面型 光科独创核心技术 ;#c|ZnX }#~@HM>6Z 课程特色及对象: 6<0-GD}M VB6EM|bphl 高级课程内容,针对具有一定经验的光学设计及ZEMAX光学工程师 VsS.\1 主要针对企业中的ZEMAX软件使用的高级工程师 bz!9\D|h 深入讲解光学镜头ZEMAX优化技术及技巧,详细讲解ZEMAX计算光学镜头的加工工艺及公差分析 48X;'b,h ZPL宏语言编写,分享及深入剖析多个光科OPTOTEK独创ZPL扩展的ZEMAX功能 &t)dE7u5 YrAaL"20 报名电话: 025-84305866 陈小姐 .5=Qfvi*
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Q*wub9 课程内容大纲 NOTE: 课程内容为光科公司多年经验设置, 光科公司版权所有 GE4d=;5 2yqm$i9C o6f^DG3*
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