这个曾透膜如何镀,如何设计?
光从GaN出来。经过 ITO,SiO2 到空气。 DPCB=2E 需要把ITO和SiO2的厚度设计成曾透的厚度。 ME"B1Se\ 用TFCalc如何设计,求详解?如何设置这些参数,和后续的操作? 22aS
<@} ru#,pJ=O( #9-qF9M %5#ts/f \c1u$'| v Reference bBwQ1,c$ Wavelength(参考波长): [=k$Q
(.3 #-5.G>8
UnSi= uj Y+vG]?D t5:
1' N9P Illuminate(光源): B:Y"X:Y iI T7pq1
WWf#in a;a^- n|D Vwxb6,}Z Incident E,u/^V9x angle(入射角): }8
V/Cd9 D6X0(pU0 $gZC"~BR 8t)5b.PS n~ w.\939@ Incident og0su medium(入射介质): Nfv.v1Tt+ F|mppY'<J 'W'['TV w[ )97d %?<Y&t Substrate(基底) p;#@#>h 'M20v-[ jEK{QOq0 $2!|e,x ~9Xs=S! Thickness(厚度)mm hIBW$ 0eJqDCmH %?2:1o E4}MU}C#[ {>EM=ZZfg Exit {3)^$F=T medium(出射介质) JWB3;,S XC*!=h* #_(t46 vZ6_/ew8 e-&0f);i Detector(探测器): }#cFr)4f F7!q18ew i!yu%>:M w'i8yl
bZ ta;q{3fe First !tuN_ Surface(第一面) bM@8[&ta RyuI2jEy r
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