| xiong0515 |
2011-06-09 17:13 |
杂散光分析时遇到runtime error 和软件崩溃问题
RT 对一个相对复杂的系统（用TracePro4.16的expert版，包含双折射晶体、自定义光栅、还有较多的螺纹）杂散光分析时，用的simulation模式，可是还是出现如下问题 5o|u!#6
首先是runtime error wRWKem=
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另外还有 3~0X e
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[attachment=34149] k.0pPl
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[attachment=34150] %hzNkyD)Y
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请问此问题何解啊何解？？？头疼啊，已经用simulation模式了，光线阈值又不能设太低，要不然像面根本就没有杂散光光线，重点采样也初步设了点， E?f*Z {~,
这个，是不是软件版本问题啊，感觉这个版本有点不稳定…… 可是又找不到更高的可用版本，求推荐版本啊 K[| d 7e
这里还有一个重要的问题是光栅的问题……这个比较复杂，这里也说不清楚……额，我怎么这么多问题，头都大了，希望各位帮忙啦，谢谢各位神奇的斑竹啦
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