南京光科2011年5月深圳TracePro照明设计培训课程

南京光科信息技术有限公司品牌课程: TracePro LED照明设计培训课程

地点：深圳市时间： 2011年5月25日 - 5月27日

为保证课程质量，每次课程设定学员上限 15人

照明课程费用￥3000元

报名热线：025-84305866 祁小姐

电子邮件: ada&optotek.com.cn 将&换成@

在线报名：http://www.optotek.com.cn/liaise-index.form_id-1.htm

本课程特色：

从基础到高级的应用，结合实际工程案例进行讲解
LED二次光学设计：手电筒非球面镜头，光斑形状调节
LED路灯二次光学设计，LED阵列设计。照度等多种分析方法。
全程操作，全程练习。LED微型投影机设计案例。
LED 原厂光源使用 CREE OSRAM，光源近场及原厂分析及封装特性

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南京光科信息技术有限公司 LED照明设计培训课程

Ebj0 {ZL 上课时间	Sn'!Nq> 第一天	bWb/>hI8 Q 第二天	aynaV 第三天
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8Vn 10:30-10:45	G8w@C 课间休息	zb[kRo&a0W 课间休息	C_ d\|2C6 课间休息
lU=VCuW! 10:45-12:00	+?3RC$jyw 照度分析 `%#_y67v 光强分析 # SCLU9- 物体建模练习 Rl0"9D87z 3D模型文件导入导出	S/pU\|zV[ 人眼观察效果-亮度计算 Hr}"g@ < CREE Xlamp 系列光源 h7K,q S 手电筒透镜设计实例	"38<14V 自动优化练习：LED 二次透镜设计XR-E 或XP-G 距离1000mm 400mm 光斑均匀 3l`"(5 讲解设计过程
hmLI9TUe6 12:00-14:00	OPq\|4xu 午餐	Si~wig2 午餐	Oz_CEMcy 午餐
RaTNA W)v> 14:00-15:30	+ru`Zw5, IES文件导入 O\;Lb[`lb 光科IES文件生成器的使用 @##}zku 方光手电筒设计	nSSJl LED反光杯矿灯设计实例 mM/#(Ghl 练习1： XR-E 或XP-G 700mm 200mm 光斑均匀 txnH~;( PMMA 直径 < 23MM \,p?pL<' 练习2：XR-E 或XP-G 反光杯 700mm 100mm 均匀中间无空洞	7u^wO< CPC TIR透镜设计 />9`Mbg[G 阵列Macro的使用 2w1Mf<IXPo 双向非球面Macro
<x;g9Z>( 15:30-15:45	$$4flfx 课间休息	#>_fYjT 课间休息	N@k' s 课间休息
d72 yu3 15:45-17:00	? B\|i 球差调节，根据实际的光线情况，来调节或选择非球面形 - CONIC光源数据图形识别 <)O#Y76s 表面光源特性生成器	mqJD+ K TracePro的自动优化 Xu_1r8-\|=b 光源坐标优化光效 .*YOyK3H 反光杯准直优化 }>y~P~`S: 吸顶灯均匀光斑自动优化	=\|$U`~YB 荧光粉分析 3ZSU^v 花生粒LED路灯透镜设计 j&A9 &+w LED投影机的整体设计

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