ZEMAX(武汉)光学设计软件成像培训班2011年5月25-27日
ZEMAX(武汉)光学设计软件成像培训课程 开课时间:2011年5月25-27日 开课地点:武汉市区 ● 主办单位 'I|A*rO 南京理工大学 电子工程与光电技术学院 pDr%uL 光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn r&AX G([8Q8B4+ ● 课程形式 f&+=eUp 讲师讲授与学员互动式教学,课程均采用小班授课模式,下机讨论并指导上机练习,教材与PPT同步教学,通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。 N>z<v\` >sAZT:&gv ● 课程对象 5m,{?M` 光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 l?CUd7P(a %JBFG.+ ●课程特色及内容 <b74L ☆本课程为ZEMAX标准学习课程,专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置,通过本课程密集培训和练习互动后,学员能达到独立轻松设计光学系统,并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括: ns_5|*' 1、光学理论基础介绍,几何经典成像理论,像差理论,一阶光学与三阶光学计算像差,像差产生原因 Kg0Vbzvb 及平衡像差的方法。 j-2`yR 2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 wT?.Mte 3、光学系统设计实例,包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计,从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构,变焦镜头、扫描镜头设计。 i3I'n* 4、ZEMAX的优化技巧探讨,设定评价函数及评估系统性能的方法,优化操作函数的选择,玻璃材料的优化方法。 BXgAohg! 5、衍射光学理论,衍射极限系统分析,MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 ra\Moy 6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 ;Ab`b1B 7、光学系统公差分析,模拟实际加工及装配中产生的误差,预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤,蒙特卡罗结果分析集阐释。 uG1
1~uAt ------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------ }>vf(9sF` +(/?$dRH ● 费用及优惠 &0*l=!:G^ 3000元/人 ☆ 同一单位有三人以上报名客户 ☆ 光研软件购买客户或参加过光学课程的客户 55xv+|k 培训费用均享受8折优惠 KE\p|X i WN9< ● 培训证,书 1aKYxjYM 培训结束后,将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证,书。 4HlOv%8 b#0y-bR ●其他事项 qM
F'& 每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用,也可自带软件,统一安排培训 & f7 {3BK 统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材,学员自带电脑,食宿需要自理(可提供中餐) "Y@rNmBj 具体开课地点报名缴费后在开课前一周另行通知 X%"P0P Vm.&JVb ● 报名咨询及热线 j:D@X=| 联系人:侯小姐 电话:025-57929358-808 传真:025-57929359 wH1E7LY|R E-mail:nancy@wavelab-sci.com.cn sales@wavelab-sci.com.cn %Kd&A*
ZEMAX光学设计成像培训班课表 5月25日-5月27日 Bb[%?~
E! 本课程配备ZEMAX公司成像培训教材
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