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aifash 2011-03-24 16:07

2011/5/13-TracePro技术应用研讨会<深圳>

上海爱尔发科技有限公司于2011年5月13日,免费举办一场光学设计软件TracePro技术应用研讨会,为丰富此次研讨会的专业性,我们诚邀Lambda Research (Taiwan) 总经理曹兆玺先生为所有来宾带来TracePro 最新版功能及LED 与LCD 相关产业的应用与介绍,并现场为您解惑答疑。欢迎您莅临会场,共襄盛举! {Q la4U  
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如欲报名者,请填好报名表FAX to:021-64052327或mailto: candy@apic.com.cn 即可, 座位有限,请尽早报名,谢谢! @0>3))  
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內容: http://www.apic.com.cn/shownews.asp?id=92 N%.Dj H  
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l   议程表(2011年05月13日,星期五) JrdH6Zg  
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时间
主题
08:30 报到,领取资料与精美赠品
09:00(40分钟) BsX# ~  
TracePro的演变与7.0功能介绍 8?7gyp!k_f  
1.       TracePro的功能演变 s*B-|  
l   4.x – 网点与荧光粉模拟, 亮度分析 (Texture and fluorescence simulations and radiance analysis) sC .R.  
l   5.x – 增强型光源 (Enhanced source management) I2wT]L UV  
l   6.x – 原生 x64 程序支持 (x64 support) k5@_8Rc  
l   7.x – 多进程 (multi-core support) UUt631  
2.       V7的功能 fii\&p7z  
l   Grouping in model view K{&b "Ba1  
l   Multi-core demonstration
09:40(30分钟) *G{Zo*2< i  
TracePro在背光系统的设计与优化 ,T|%vqbmw  
Outline: ]3E':JM@  
1.       背光模块的构成与仿真 KrFV4J[  
2.       光源的建立 S0ct;CS  
3.       TracePro的鳞甲与网点功能 [[[QBplJ  
4.       网点的设计与优化
10:10 ",ic" ~  
茶叙交流 coffee break M\s^>7es  
10:30(30分钟) X; gN[  
荧光粉模拟与LED设计与优化 LEJ7.82  
Outline: ,Wp0,>!  
1.       TracePro的荧光粉模拟介绍 N3};M~\  
2.       快速的建立荧光粉材质与分析 ibOXh U  
3.       白光LED的设计 Lu~e^Ul   
4.       使用Interactive Optimizer进行LED的设计与优化
11:00~ qKL_1 ~  
Q&A B9_0 Yq  
rGZ@pO2  
1.    欢迎参观5/10~5/12Strategies in Light China(香港九龙香格里拉酒店),爱尔发公司TracePro摊位8 \?} {wh8  
2.    欢迎参加5/13(五) TracePro应用研讨会-深圳场
huangshan 2011-03-28 13:21
5月份,深圳,这个要顶
gmfc 2011-03-30 15:49
打算去看看
naomi 2011-03-30 22:02
路过,记号
nameless 2011-04-10 15:04
准备一下,看看有没有机会去看看
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