| chenenlin |
2020-10-25 15:53 |
V11.4.585 &ic'!h" 核心 d 8;kM`U i ZPNss `^/8dIya 已修复以下问题: H_@6!R2 odca? *g*"bi* M-].l3 如果材料没有用于内部传输的条目,则使用该材料打开设计将始终尝试打开设计的存档。 $,:mq>]![{ }O+xs3Uv 未从设计文件中加载错误参数 w/
~\NI hpXW tQ 多次单击"反向工程"中的"调整"按钮将启动对相同数据的多次调整。现在一次只执行一个调整。 =c\(]xX \},H\kK+^ 当设计具有厚层时,冻结活动图不起作用 .aO6Y+Y 9b >+ehj B 误差计算没有正确设置用于事件介质或基材的活性材料。 (z8ZCyq7r[ tJu:N'=Dy 无法在参数 > 性能中输入图层编号 q}p$S2` nGWy4rY2S 在从外部来源导入设计期间,改进了外部设计中材料与数据库中材料的匹配。 vfn[&WN] pf'DbY! 运行表 ##''d||u YGPb8! q !9;JrX 以下问题已修复: xO:h[ 9h+Hd&= ?J+jv ::{\O\w 芯片上的上一层并不总是正确选择。 '*XIp: h0m5oV ~q+AAWL O)V;na V11.4.584 jA {BG_ 核心 2He R1m< e.L&A| ;]xc}4@=mg 以下问题已修复: ]:@{tX7c |LJv* SVwxK/Fci _,0.h*c 验证站点密钥后,不会立即更新选项。 ,7cw%mQA Z] r9lC V11.4.583 O7IYg; 核心 >QJDO ]~V .9Oj+:n \C~6
' 以下问题已修复: 4y}z+4 >0:3CpO* bxPa|s? 7;@YR 目标生成器中没有回反射导数。 !Z>,dN -*[)CR-{ V11.4.582 5l@}1n 核心 9$U>St yqK_|7I+ > .}G[C 以下问题已修复: h&i(Kfv* Cp!9 "J: h`! 4`eI /g*_dH)= 当仅为斜角图选择p 极化且选择了事件角度标签时,该标注不会显示在绘图上。此外,如果选择了表,则 s 极化列为空。 }8l+Jd3" n%\\1 V11.4.581 7>@0nHec 核心 Z%ZOAu&p 4e\w C Ow1+zltgj- 以下问题已修复: Y
?~n6< / QL<>g #p;<X|Hc}8 i@P=*lLD Optimac 参数对话框中未显示图层的最大数。 =;n>#< cEp/qzAiD% V11.4.580 jX' pUO 核心 ()8=U_BFz ;7E"@b,tPN WSeiW 以下问题已修复:
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8 rE` 在 Stack 中,在某些情况下,第二个垂直轴图例中的射点角度未正确显示。 MwD+'5
|@b|Q, V11.4.579 bZK`]L[ 核心 z,C>Rh9Id 6,CK1j+tZ 3- d"-'k 添加了尝试替代路径到简单,Optimac合成和针合成。大多数优化方法在从起点移动到改进的解决方案时选择单个路径。对于更困难的问题,这可能不是最好的途径。尝试"备用路径"会导致优化器根据下一次迭代中的潜在结果选择不同的路径。由于优化器不知道将走哪条路径,因此必须考虑每个可能路径的下一次迭代。这会导致运行时增加,因为必须执行更多的功绩图计算,因此该技术将导致迭代速度的减慢。要使用"尝试备用路径",请检查"简单"或"Optimac"或"针"合成的参数窗体中的选项。 c\P}ZQ uVZm9Sp <.lN'i;( 4K;0.W;~| 边缘过滤器工具已经增强,现在它找到了更广泛的材料设计。 KVoi>?a |%X_<Cpk u0+<[Ia'q <;b 基底n,k & T 工具已经增强,因此现在也可以接受抑制二表面反射的单面反射测量。 wN0?~ WV|9d}5 yYk?K<ou $1 Z3yb^
各种绘图参数现在可以指定多个值。其中包括:事件角度、计算波长、温度偏移、带宽和锥角。使用不是以下之一的分隔符指定多个角度:数字、+、-、E、e、周期、逗号。例如,如果在入射角度框中输入"0/15/30",则选择绘图时,将绘制三个角度的曲线。表仅使用列表中的第一个角度。 @*T8> [daR)C
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