请教关于光控预镀层的问题!-光学薄膜设计,工艺与设备-光行天下-最大的光电技术社区-光学,光电,光机技术及其软件运用交流社区!

首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题

光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 请教关于光控预镀层的问题! [点此返回论坛查看本帖完整版本]

[打印本页]

holdout	2009-07-03 14:36
请教关于光控预镀层的问题! 一般我们要镀多层膜的时候,直接用k9的玻璃做监控可能不是很好控制,所以要预先在k9的控制片上镀上其他材料的膜!但是这个预镀层材料的选择和厚度以什么为标准来定呢? Mi!ak 望大家赐教!

dingjie	2009-07-28 10:18
不了？？？？

yzhuang	2009-08-01 11:07
真正的老机器了,这是几十年前的做法了,现在的好光控完全不用预镀了

pfc537	2009-08-06 21:12
偶用的是老机器，希望有人赐教如何解决，而且我还想问为什么要预镀？干嘛不直接用

morningtech

2025-01-13 17:23

预镀层改变光控片的组合导纳，从而改变真正成膜时光量的走势。提高判断准确度。

设想，要求镀 200nm厚 SiO2，折射率 1.44。
1.44*200 = 2 *576/4，即用 576nm波长监控时，走两个极值。
光控片是玻璃或石英时，光量变化幅度很小，光控很难判断。
如果用 576nm 波长将光控片预镀HLH，H是高折射率材料。假如H=2.2，那么此时再镀 SiO2时，它的透过率起伏幅度可以达到 25%。同样走两个极值，但容易判停了。
在只有单一波长监控下，还是很有用的。

查看本帖完整版本: [-- 请教关于光控预镀层的问题! --] [-- top --]