| morningtech |
2025-01-13 17:23 |
预镀层改变光控片的组合导纳，从而改变真正成膜时光量的走势。提高判断准确度。 l5m5H ,`
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设想， 要求镀 200nm厚 SiO2，折射率 1.44。 0F\ e*{gc
1.44*200 = 2 *576/4， 即 用 576nm波长监控时，走两个极值。 -UPlQL
光控片是玻璃或石英时，光量变化幅度很小，光控很难判断。 2|1s !Q
如果用 576nm 波长将光控片预镀HLH，H是高折射率材料。 假如H=2.2，那么此时 再镀 SiO2时，它的透过率起伏幅度可以达到 25%。同样走两个极值，但容易判停了。 0V:DeX$bZ
在只有单一波长监控下，还是很有用的。
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