应用光学研讨
中国国际光电子材料与器件研讨会 Hni?r!8r
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---中德国际应用光学专题研讨会
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（中国·深圳会展中心 2009年9月6日－7日） b(" M8}o
组织机构 w72\'
主办单位: k6^!G "
中国光学学会 }x?2 txuu
德国应用光学协会 =.t 3|5U8
中国国际光电博览会（CIOE） rLI );!^-
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承办单位： L~&r.81
中国国际光电博览会（CIOE） G!5~`v
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海外支持单位： 'E kuCL
德国大众传媒集团 y"Jma`Vjq
俄罗斯光电协会 g I@I.=y
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支持单位： 2D ' $
中国光学光电子行业协会 'zfj`aqc
中国科学院光电研究院 DY8w\1g"
深圳科技和信息局 CP6xyXOlPB
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协办单位： &4jc3_UKV
中国科协 b'
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中国电子商会 6"u"B-c z
广东省光学学会 C0
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台湾光电科技工业协进会 E}8wnrxf
香港光电协会 ExZ|_7^<
深圳光学学会 ! ^TCe8
深圳光学光电子行业协会 6~! l7HqO
华南师范大学信息光电子科技学院 9?4:},FRmE
光电新闻网 m-MfFEZ
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合作媒体 tQmuok4"d
CCTV.COM、 深圳新闻网、深圳商报、深圳特区报、中国贸易报、 HC360 慧聪网、阿里巴巴、环球资源、《光学学报》、《应用光学》、《光学与光电技术》、《光机电信息》、《光连》、《光子学报》、《光学精密工程》、《半导体科技》、《光机电月刊》、《国际光学市场》、《元器件快递》、中国真空网、中国光学网、显微在线、中国激光网、中国激光设备网、中国视觉网、中国医疗器械网、中国军工信息网、西安光电资源网、中国高教仪器信息网等。 aW;DfH
中德国际应用光学专题研讨会简介 G?5Vj_n
为了推动中国光学事业的快速发展，促进中国光学科研院所和光学企业之间的紧密结合，推动中国光学科学发展与生产技术的进步，由德国应用光学协会、中国光学学会和CIOE共同主办的《中德应用光学国际专题研讨会》将在中国国际光电博览会期间隆重举行。 KU*XRZu)
研讨会主办德方将由欧洲应用光学分会、德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士带队，中方将由中国光学学会理事长周炳昆院士带队，他们分别带领两国有关科研院所及光学企业的研发精英出席，这将是两国的顶级专家在光学设计、光学加工、光学测量及应用方面首次在光博会同台论剑，同场还将有来自德国、日本及韩国的光学知名企业专家，他们将为行业和CIOE参展企业展现应用光学世界最高水平。本次研讨会内容和主题重在应用技术，这会为光学企业的技术发展给予方向性和启迪性指导。 J6RzN' j
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中德国际应用光学专题研讨会亮点 %SN"<O!
² 本次研讨会的特点是重应用轻理论，以满足参展企业和整个行业渴求新产品、新技术、新应用的愿望。世界顶级光学企业专家出席，将带来光学加工等领域的最新水平和技术，非常值得期待。 YzeNr*
² 德国和日本是世界光学工业最发达的国家，尤其在光学加工方面，其光学仪器仪表和光学镜头无人能比，研讨会将大量涉及实用性技术。 &^(4yw (~
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研讨会主要议程和主题（初定） JbXd9AMh2
2009年9月6日上午 bSj-xxB]e
² 会议开幕式由德国应用光学学会Michael Pfeffer会长与中国光学学会周炳琨理事长致词，并发表论坛主题演讲。 ] Wx?k7T
² 第一单元主题： 0vrx5E!
前沿光学设计理论与技术 （主讲人，中外专家）； ],l\HHQ
光学与光电子材料及其应用（主讲人，中外专家）； QpiA~4
2009年9月6月下午 {Xv0=P
² 第二单元主题： 'QC '*Hl
现代光学制造技术 （主讲人，中外专家）； ZFNg+H/k
2009年9月7日上午 M992XXd
² 第三单元主题： *dPG[ }
现代光学测试技术与仪器 （主讲人，中外专家）； 4{CeV7
组委会联系方式 K 2!GpGZu
中国国际光电博览会（CIOE） KK,
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地 址：深圳南山区海德三道海岸大厦东座607 uG=~k O
邮 编：518059 pmgPBiU>
联系人：张先生 8M8Odz\3 q
电 话：0755-86290817 13760328418 aXh~w<5F
传 真：0755-86290951 <
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在线QQ咨询：233343935 0 t2n7Y?N
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