应用光学研讨
中国国际光电子材料与器件研讨会 `uc`vkVZ
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---中德国际应用光学专题研讨会
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（中国·深圳会展中心 2009年9月6日－7日） 9? |m ^
组织机构 U9Lo0 K
主办单位: "VeNc,-nfQ
中国光学学会 TrVQ]9;jWk
德国应用光学协会 CelM~W$=u
中国国际光电博览会（CIOE） |vj!,b88n#
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承办单位： &qV_|f;
中国国际光电博览会（CIOE） 7': <I- Fm
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海外支持单位： |H8UT S X+
德国大众传媒集团 UQ2;Dg G%
俄罗斯光电协会 0[s<!k9=
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支持单位： zQtx! k=
中国光学光电子行业协会 z"! =A}i
中国科学院光电研究院 6
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深圳科技和信息局 c`V~?]I>
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协办单位： p|=0EWo4U
中国科协 j2:A@ a6
中国电子商会 U&6f:IV
广东省光学学会 }}v28"\TA
台湾光电科技工业协进会 ePI)~
香港光电协会 h{Y#. j~aS
深圳光学学会 LYS[qLpf
深圳光学光电子行业协会 y/ah<Y0(
华南师范大学信息光电子科技学院 gd ; e-.
光电新闻网 W.<I:q`eO
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合作媒体 !%YV0O 0
CCTV.COM、 深圳新闻网、深圳商报、深圳特区报、中国贸易报、 HC360 慧聪网、阿里巴巴、环球资源、《光学学报》、《应用光学》、《光学与光电技术》、《光机电信息》、《光连》、《光子学报》、《光学精密工程》、《半导体科技》、《光机电月刊》、《国际光学市场》、《元器件快递》、中国真空网、中国光学网、显微在线、中国激光网、中国激光设备网、中国视觉网、中国医疗器械网、中国军工信息网、西安光电资源网、中国高教仪器信息网等。 K-7i4
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中德国际应用光学专题研讨会简介 UyOoyyd.
为了推动中国光学事业的快速发展，促进中国光学科研院所和光学企业之间的紧密结合，推动中国光学科学发展与生产技术的进步，由德国应用光学协会、中国光学学会和CIOE共同主办的《中德应用光学国际专题研讨会》将在中国国际光电博览会期间隆重举行。 mr`EcO0
研讨会主办德方将由欧洲应用光学分会、德国应用光学学会会长Michael Pfeffer博士带队，中方将由中国光学学会理事长周炳昆院士带队，他们分别带领两国有关科研院所及光学企业的研发精英出席，这将是两国的顶级专家在光学设计、光学加工、光学测量及应用方面首次在光博会同台论剑，同场还将有来自德国、日本及韩国的光学知名企业专家，他们将为行业和CIOE参展企业展现应用光学世界最高水平。本次研讨会内容和主题重在应用技术，这会为光学企业的技术发展给予方向性和启迪性指导。 (2%z9W
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中德国际应用光学专题研讨会亮点 C9 cQ}
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² 本次研讨会的特点是重应用轻理论，以满足参展企业和整个行业渴求新产品、新技术、新应用的愿望。世界顶级光学企业专家出席，将带来光学加工等领域的最新水平和技术，非常值得期待。 O0> ^?dsL
² 德国和日本是世界光学工业最发达的国家，尤其在光学加工方面，其光学仪器仪表和光学镜头无人能比，研讨会将大量涉及实用性技术。 -\fn \n
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研讨会主要议程和主题（初定） 1)h+xY
2009年9月6日上午 xr 4kBC
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² 会议开幕式由德国应用光学学会Michael Pfeffer会长与中国光学学会周炳琨理事长致词，并发表论坛主题演讲。 s& WHKCb
² 第一单元主题： )V*V
前沿光学设计理论与技术 （主讲人，中外专家）； .cm$*>LW:x
光学与光电子材料及其应用（主讲人，中外专家）； m_1BB$lyP2
2009年9月6月下午 g R)
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² 第二单元主题： +wg|~Lef h
现代光学制造技术 （主讲人，中外专家）； *.Ceb%W7C
2009年9月7日上午 ZfN%JJOz(
² 第三单元主题： $v+t ~b
现代光学测试技术与仪器 （主讲人，中外专家）； (SYSw%v$A
组委会联系方式 k
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中国国际光电博览会（CIOE）
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地 址：深圳南山区海德三道海岸大厦东座607 2:l8RH!Y
邮 编：518059 #Y9~ Xp^.
联系人：张先生 }W k!):=y
电 话：0755-86290817 13760328418 '`Iuf\
传 真：0755-86290951 Q{+&3KXH
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在线QQ咨询：233343935 R7d45Wl
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