| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 >5 -1?vi
Z\nDR|3
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) l
r&7 qu
xsH1)
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). j L|6i-?!
l(Rn =?
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： Z A(u"T~
[attachment=18975] L
BbST!
62sl6WWS3
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： (03/4*g_s
[attachment=18976] OIP]9lM$nC
Y :!L
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 XQy`5iv
[attachment=18977] ]{1 {XIF
'#+&?6 p
单击Next_Apply即可。 = QBvU)Ki
[attachment=18978] OXEEpoU?V
^p3 G T6
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 z5jw\jBD
[attachment=18979] OS z71;j
'' nOXl
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） }^&S^N 7
[attachment=18980] <F7a!$zQ
[ ~9UsHfH
单击OK.再Load新建的目标， h!w::c V
[attachment=18981] &en.
m>9,
P 2WAnm
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 3 k1e
[attachment=18982] ["3dr@T9Z
w)EY j+L
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 3 uuIISK
[attachment=18983] L_Ok?9$
[attachment=18984]
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