| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 vKAHf;1
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参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) r {)d?Ho=
, 9|%
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). ^K@r!)We
U`FybP2R~
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： k }ps-w6:
[attachment=18975] 98Srn63O
V== ' 7n
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： T_Z@uZom.
[attachment=18976] eN/s W!:P|
c/;t.+g
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 M42Zpb].
[attachment=18977] P)1@HDN==
kjaz{&P
单击Next_Apply即可。 H4l:L(!D
[attachment=18978] z$7YC49^
rctn0*MP
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 qq w6p j
[attachment=18979] IS&`O= 7
vlyq2>TfR
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） YtW#MG$f
[attachment=18980] kjNA~{
:m#vvH
单击OK.再Load新建的目标， L!S-f4^5
[attachment=18981] Pdf_ {8 r
W:(:hT6`j9
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 pal))e! B
[attachment=18982] N#7 ] xL
eoEb \zJ
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 eVU:.fx
[attachment=18983] ,;/4E
[attachment=18984]
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