| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 |SC^H56+
7?< .L
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) ?WE#%W7U
V8ka*VJ(B
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). WGFp<R
XB,
2+
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： 8 hx4N
[attachment=18975] 5BnO-[3
uu L"o
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： OW1i{
[attachment=18976] n {JBC%^g
}}y$T(:l
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 W 1S7%6y_1
[attachment=18977] wYy=Tl-N
k4jZu ?\C]
单击Next_Apply即可。 '<_nL8A^
[attachment=18978] ]vRte!QJ;
[:<CgU 9C
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 7Y T% .ID
[attachment=18979] zhtNL_
]V*s-och'
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） m xk :P
[attachment=18980] gSQq
vI3L <[W
单击OK.再Load新建的目标， 0o~? ]C
[attachment=18981] 9x@( K|
0nUcUdIf+
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 6L [ Yn?;
[attachment=18982] 1y@d`k`t:
y J*`OU#
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 d_s=5+Yj
[attachment=18983] ApHs`0=(
[attachment=18984]
|
|