| opturn |
2009-06-10 10:36 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例2：设计和优化示例
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：设计和优化示例 T)NnWEB
fQB>0RR2
参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
G$"$k=[
Ydr/ T/1
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). @Ja8~5 :
AqzPwO^
设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜： o?$B<Cb"
[attachment=18975] 79 svlq=
lV0\UySH
单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口： h^ D]@H
[attachment=18976] UHEn+T c>
' `*{ig
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。 dw
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[attachment=18977] ~KufSt *
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单击Next_Apply即可。 R]7 -6
[attachment=18978] URodv yD
_IOt(Zb(
于上表中单击波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现 % ;E/{ gO
[attachment=18979] 1.Ximom
. .| >|X4
网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可） <?UIux
[attachment=18980] ZO2$Aan
`KgWaf-
单击OK.再Load新建的目标， L]goHs
[attachment=18981] w< hw>e^.
V2I"m
其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图 rR4_=S<Mi:
[attachment=18982] WUM&Lq
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hwaU;> F
优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。 5;5D EMe
[attachment=18983] - o8H_MR
[attachment=18984]
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