| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 46_<v=YSJ
*"fg@B5
例:评估一四分之一波片的光谱特性: Z55,S=i
d@At-Z~M
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) F:pXdU-xf
zp4ru\
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). `r*6 P^P
g#[9O'H
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. ";s5It
&K>]!yn
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： #-'}r}1ZT
[attachment=18985] MP}H
5
+"3eh1q[
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， -&)^|Atm
[attachment=18986] m9G,% ]4|
Q lb@A z
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK "fpj"lf-
[attachment=18987] ,xD{A}}V
FG#j0#|*
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 p~8~EQFj
[attachment=18988] n[4Nu`E9
a|nlmH"l
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： :m&`b q
[attachment=18989] ~Y'e1w$`
2jhVmK
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： ik$wS#1+L
[attachment=18990] !'{j"tv
:ZL>JVk
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 l*v([@A\
[attachment=18991] k5/nAaiVE
_5`M( ;hL2
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， I.8|ksc M
[attachment=18992] "L8V!M_e
HO@T2t[
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： L//sJe
[attachment=18993] Ap!UX=HBb
a^=4 '.ok
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 (|[3/_!;v
[attachment=18994] vj^U F(X
BPG)m,/b
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： ("lcL2Bq
[attachment=18995] Q?"[zX1
8PE Oi
保存：Data_Save Design。
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