| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 m#Y[EPF=|
f %[0}.wp
例:评估一四分之一波片的光谱特性: c3aBPig\D
xwhS[ d
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) /#Gm`BT
As>-9 p>v
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). R+&{lc
)x& 4 Q=
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. (F+]h]KSi
y d=NafPM
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： +~ n"@ /
[attachment=18985] KFhnv`a.0
5>\Lk>rI
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， 4R}$P1 E
[attachment=18986] 7X{@$>+S
=Sjf-o1 V
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK hd>_K*oH
[attachment=18987] 49!(Sa_]j
8+mu'RZ X
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 wl N l|+ K
[attachment=18988] $aC%&&+wG
{>h, @
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： v"x'rx#
[attachment=18989] 1$n!Lj=5
*r/o
\pyH
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： Ha/Gn !l
[attachment=18990] <Kk [^.7C;
3kJ7aBiR<
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 /4>|6l=
[attachment=18991] R^VmNj
LZ4Z]! V
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， tGw QUn
[attachment=18992] {fxytiH8
QD*\zB
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： g0M/Sv
[attachment=18993] AVO$R\1YR
Tqm)- |[
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 q^Ui2
[attachment=18994] ;\54(x}|K
S{S.H?{F
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
f)#nXTXeC
[attachment=18995] ;~"#aL50fe
1 #V&'A
保存：Data_Save Design。
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