| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 3g h^a ;uC
>k#aB.6
例:评估一四分之一波片的光谱特性: P3|<K-dFAK
[eN{Ft0x
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) )K6{_~Kc\
gc:>HX );)
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). J|q_&MX/
#lC{R^SL
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. y$"L`*W
?(=B=a[
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： ?!66yn
[attachment=18985] |W gab5D>V
,'6 GG+
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， ?n+\T'f!
[attachment=18986] }>:X|4]
LN^8U
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK % G&v@R
[attachment=18987] F& ~vD
el%Qxak`"
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 )1,&YJM*6l
[attachment=18988] `!8Z"xD
/{va< CL
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： rY= #^S
[attachment=18989] 3Cl9,Z"&6$
`y#C%9#
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： a40BisrD~6
[attachment=18990] jg8P4s
M2S|$6t:
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
}+J@;:
[attachment=18991] R 2s>;V.:
t} M3F-NZ
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， hzb|:
[attachment=18992] $C/Gn~k 5
DPx,qM#h5O
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： ||HIp9(3
[attachment=18993] >>D i
sCl,]g0{
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 TbVL71c
[attachment=18994] c F vx* n
U;@jl?jnG
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： ~B@o?8D]
[attachment=18995] lg+g:o
^aCYh[=
保存：Data_Save Design。
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