| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 MW |*Z{6*
H y~+|hLvh
例:评估一四分之一波片的光谱特性: \ 9!hg(-F
V1-URC24vd
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) *ufVZzP(
?se\?q
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). UTS.o#d
Jk=_8Xvr`
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. 4`[2Te>
U_KCN09
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： t6C2DHh7$
[attachment=18985] Fm# `}K _
7 .y35y
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， H.)Y*zK0.
[attachment=18986] 5 Y4#aq
+ktubJ@Qgj
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK =n ff;Xu
[attachment=18987] MHqk -4Mz
dMw}4c3E
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 MU>6s`6O
[attachment=18988] uc>]-4
$ n= w
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： <ebC]2j8cK
[attachment=18989] ,CxIA^
'ju 'O#A9
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： evvv &$&
[attachment=18990] s1>d)2lX
/~1Ew
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 @L ,4JPk
[attachment=18991] 5"9 '=LV~
N?s`a;Q[=
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， <~teD[1k"
[attachment=18992] Ib(G!oO:E-
=&t]R?
F
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： =/e$Rp
[attachment=18993] 8pXqgIbmb
d+WNg2# v
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 eA_]%7+`
[attachment=18994] eh;L])~C
6an= C_Mb`
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： po@Agyg5
[attachment=18995] Y !%2vOt
z7_h$v
保存：Data_Save Design。
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