| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 a,eR'L<"*-
GD(gm, , )
例:评估一四分之一波片的光谱特性: |,YyuCQcL[
C8ss6+k&
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) r 0m A
%[3?v X
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). /G[2
N
R B>X
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. E2.@zY|:
GSl vT: k
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： Ml-GAkgG
[attachment=18985] .` w[A
=Sjr*)<@j
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， ?a)X)#l Q
[attachment=18986] .T!R&#]n
r .-U=ql
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK : A2{
[attachment=18987] Oe# *-
>.sdLA Si
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 Z]L_{=*
[attachment=18988] < ]: X
cXcrb4IKD
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： \/qo2'V
j`
[attachment=18989] !u)>XS^E
SynL%Y9)|,
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： |4E 5x9J
[attachment=18990] U2hPsF4f
4?eO1=a
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 0cGO*G2Xr
[attachment=18991] Z}X oWT2f
<[*%d~92z
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， LgG7|\(-
[attachment=18992] F+!w[}0
dWR-}>
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： `Zdeq.R]
[attachment=18993] m=m T`EP
, ZisJksk
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 b\Wlpb=QZ
[attachment=18994] [quT&E
to2#PXf]y
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： (n cm]W
[attachment=18995] Q4H(JD1f)
Xl/ SDm_p
保存：Data_Save Design。
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