| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 D zDj)7
gL]'B!dGd
例:评估一四分之一波片的光谱特性: hLA;Bl
Zq?_dIX
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参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) T^ )plWw
=P_fv
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). I6w/0,azC
r F8
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Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. g X/NtO %
~zMKVM1Q.,
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： Mvof%I
[attachment=18985] BMjfqX
>(tO
QeN
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， xyV]?~7
[attachment=18986] {} )y^L
XtW _
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK _7 `E[&v
[attachment=18987] F E6C6dW{
R~c1)[[E
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 qc-C>Ra
[attachment=18988] Y\8+}g;KR
C"No5r'K3
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： <JH9StGGc?
[attachment=18989] V_M@g;<o
AQn[*
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： 0 WS|~?OR@
[attachment=18990] (w2(qT& O
j];G*-iv{
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 51/sTx<Z}
[attachment=18991] J{H?xc
o
yM17H\ =
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， i@{*O@m
[attachment=18992] 8_awMVA y
YAMfP8S
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： l'2H 4W_+
[attachment=18993] &fHc"-U}
F G _,
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 J(hA^;8:
[attachment=18994] 7<4xtK`+b
M\jB)@)
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： $P_x v
[attachment=18995] LO}z)j~W
\!7 *(&yly
保存：Data_Save Design。
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