| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 45?% D}
@ry/zG#
例:评估一四分之一波片的光谱特性: jF}-dfe
Y b=77(Q V
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) ]h?q1
H76iBJ66
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). Nq%ir8hE
i\,I)S%yJ
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. .* )e24`
H $+@O-
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： Vu,e ]@
[attachment=18985] %tMx48'N
Mg~4) DW]
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， &|<f|B MX
[attachment=18986] P8(hHuO
?<`oKBn
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK Gp{,v
[attachment=18987] (3"N~\9m
nwp(% fBo
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 Xhq7)/jp
[attachment=18988] VV{>Kq+&,v
2t4\L3
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： * bd3^mP
[attachment=18989] <.mH-Y5i
6`@b@Kd
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： ftG3!}
[attachment=18990] ;=7K*npT
au04F]-|j8
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 e P,bFc
[attachment=18991] '4nJ*X a
xeL"FzF:V
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， \{}dn,?Fv
[attachment=18992] Zwm/ c]6`
RC/45:hZZ
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： _6Y+E"@zs
[attachment=18993] 'Oj 1@0*0
vQ
L$.A3>
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 EJ>&\I q
[attachment=18994] [ /YuI@C,@
{#ynN`tLyF
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： @)BO`;*$fF
[attachment=18995] W| D
kq
Kxch.$hc,
保存：Data_Save Design。
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