| opturn |
2009-06-10 10:34 |
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例1：评估设计曲线
光学薄膜设计软件Optilayer使用实例：评估设计曲线 Y]&2E/oc
'u PI~l`g
例:评估一四分之一波片的光谱特性: (8S+-k?
y\6C9%.
参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52) Ktuv
a3=>N
`aMnTF5:
层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3). yYJ +vs
!Y^B{bh
Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK. "5,Cy3
Ki :98a$
打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口： iF##3H$c
[attachment=18985] z5^Se!`5
v>h c\H1P
单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称， o9D#d \G
[attachment=18986] vKbGG
Ov:U3P?%
单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK `sdbo](76
[attachment=18987] sZa> +
6XhS
g0s
然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。 's8LrO(=
[attachment=18988] YTe8C9eO
pkIJbI{aS
同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500： g{?{N
[attachment=18989] 0oyZlv*
jA3Ir;a
单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图： >Co@K^'
[attachment=18990] 5zJ#d}%}S"
d$D3iv^hyx
在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口 u"q!p5P%q
[attachment=18991] q={3f m
q>a/',m
可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ， qy!pD
R;
[attachment=18992] w\a9A#v,
`Z#]lS?
在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图： Zg ;Ht
[attachment=18993] 9jUm 0B{?
lg COp%>
上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。 &2Cu"O'.i
[attachment=18994] O;;vz+ j
Q0_|?]v
单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图： K@=_&A!
[attachment=18995] `{@?O%UB
])T_& %
保存：Data_Save Design。
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