| plok531 |
2008-01-03 22:49 |
Macleod 薄膜設計 問題
300~380 T abs <1% ， T=50%@405nm +- 10nm H)n9O/u
425~680 Tave >90% ， T=50%@720nm +-10nm i-6 Z"b{
780~1200 nm T ave <1% M3q|l7|9
. 0es 3Rj
用 (0.5H L 0.5H)^s (0.5L H 0.5L)^s (0.5L H 0.5L)^s 3個膜堆(2短1長 ) i rfp!(r
P'_H/r/#
H： Ta2O5 L：SiO2 *c2YRbU(
( SvWv m
該如何設計
|
|
