| plok531 |
2008-01-03 22:49 |
Macleod 薄膜設計 問題
300~380 T abs <1% ， T=50%@405nm +- 10nm RO+ jVY~H-
425~680 Tave >90% ， T=50%@720nm +-10nm DW(
/[jo\
780~1200 nm T ave <1% "5<:Dj/W
M[ {O%!
用 (0.5H L 0.5H)^s (0.5L H 0.5L)^s (0.5L H 0.5L)^s 3個膜堆(2短1長 ) a +'k#m
(#kKL??W
H： Ta2O5 L：SiO2 _%g L
fGZ56eH:
該如何設計
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