| lilylyl |
2007-08-09 21:19 |
主要镀膜材料及其性能和用途 zF[kb %o
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 gI~ R u8
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 xL3-(K6e
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼，钽，电子枪 增透膜、多层膜 _Y4%Fv>@
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 '2vZ%C $
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼，钽，电子枪 增透膜 qgbp-A!2zF
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 oyZ}JTl( Q
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪，Al2O3 透明导电膜 Ob$| IH8.
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼，钽，钨 增透膜 ne4j_!V{Mf
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼，钽，钨 增透膜、多层膜 Kr3L~4>
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 y*0bHzJ
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨，电子枪 增透膜 *.#d'~+
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 .uG|Vq1v
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 Q|q.~x<RQ
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼，钽，钨 增透膜、保护膜 7%)
F]
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 L=nyloz,0
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 MDGD *Qn~
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 9 !6sf
GZ
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 qn}4P Vn4
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 W-ErzX
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽，钨电子枪 增透膜、多层膜 ?B3
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼，钽，铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 ZT:&j4A|0
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼，电子枪 增透膜 *~~ >?
硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜 E96FwA5
锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪，钨 红外膜 <)ozbv Xk
硒化锌 2.58/550nm 600~15000 600~900 钼，钽，电子枪 红外膜 [1K\
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硫化锌 2.4/1200nm 400~14000 1100 钼，钽，电子枪 多层膜 Lg w!S~0
氟化钇 红外膜(10.61.49/632.8nm 200~15000 1100 钼 m)增透膜 H,bYzWsrPo
氟化镨 1.51/632.8nm 220~15000 红外膜(10.61400~1600 钼，电子枪 m)增透膜 r)UtS4 7
氟化铝 1.35/500nm 200~8000 800~1000 电子枪，钼，钽 紫外膜 dY'/\dJ
氟化铅 1.76/470nm 220~9000 700~1000 铂 紫外膜 MA0 }BJoW
氧化钆 1.8/550nm 320~15000 2200 增透膜
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