ouyuu:一般是杂质或者膜质不均匀造成的。 cj|*_} 杂质是膜料问题,膜质不均匀是工艺问题,另外Ti2O5本身在短波就有吸收。 =}fd6ea(o 充氧可以解决部分膜质不均匀的问题,最好是用射频离子源辅助镀膜。 Q_"\Q/=?Do 离子源能量不够容易造成发雾(散射),这是晶格尺寸造成的。 O0*e)i8 调整温度可以改善,但是最简单的方法就是 .. (2025-12-18 20:48) }2r+%V&4
bilong:[图片] q:HoKJv4 我们这个新科隆设备也是这样,150度,射频离子源,钛前面有吸收,镀可见光高反,前面400-550都上不去 WY)^1Gb$ux (2026-03-10 18:27) 0%)5.=6
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 /Y ^7Rl 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 :A$wX$H01 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 'Fzuc^G(d 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) 7+]F^ 6
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 3Y=,r!F.h 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 fLc!Sn.Y 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 paUyS 1i 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) =`ywd]\7
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