ouyuu:一般是杂质或者膜质不均匀造成的。 h~^qG2TYWq 杂质是膜料问题,膜质不均匀是工艺问题,另外Ti2O5本身在短波就有吸收。 %i]uW\~U 充氧可以解决部分膜质不均匀的问题,最好是用射频离子源辅助镀膜。 NL>[8# 离子源能量不够容易造成发雾(散射),这是晶格尺寸造成的。 zd*W5~xKg 调整温度可以改善,但是最简单的方法就是 .. (2025-12-18 20:48) It!.*wp
bilong:[图片] D 5wR?O 我们这个新科隆设备也是这样,150度,射频离子源,钛前面有吸收,镀可见光高反,前面400-550都上不去 HBf8!\0|/ (2026-03-10 18:27) `] dx%
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 . pEeR 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 _llaH 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 0$Db@ 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) fv'P!+)t
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 55KL^+-~ 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 IsL/p3| 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 "7/YhLq7 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) 8{e 3
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