首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 #u&fUxM:AS  
@Jd&[T27Lr  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 6#z8 %k aX  
t&?jJ7 (&8  
2S8;=x}/  
场景 Ao K9=F}  
v5[gFY(?  
Rw+r1vW:A  
9qap#A  
在VirtualLab Fusion中构建系统 [2@:jLth=  
ZF7n]LgSc&  
系统构建块
F_@B ` ,  
`l|Oj$  
ZF>:m>  
S{^x]h|?  
组件求解器 |f_'(-v`E  
b7.7@Ly y  
ka_m Q<{9  
/stvNIEa  
r_+Vb*|Y  
] (e ,J  
系统构建块 @X/ 1`Mp  
B- @bU@H  
c7CYulm  
h0F=5| B  
总结 gS FZ>v*6  
=z. hJu  
_hY6 NMw  
sc*R:"  
几何光学仿真 S)hDsf.I  
通过光线追迹 Zh8\B)0unn  
[]>rYZ9bv  
结果:光线追迹 N8 2 6xvA  
k| OM?\  
f0P,j~]  
ULK] ' Rn  
快速物理光学仿真 'xS@cF o(  
通过场追迹 (BY 0b%^  
HzM\<YD  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #M!u';bZ  
jU-LT8y:  
d>[i*u,]/  
+2MF#{ tS  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 .u mqyU~  
j \r GU){  
(1x8DVXNN  
:2j`NyLI.  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6aB]&WO1@  
l2;$qNAo  
faOiNR7;h  
g=mKTk   
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Sfe[z=7S  
qt9jZtx  
"6C a{n1hk  
#~p;s>  
总结 r(S h  
PxYK)n9&  
xY?p(>(  
查看本帖完整版本: [-- 通过高NA浸没显微镜进行聚焦 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计