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infotek 2025-09-15 08:05

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 3V-6)V{KaE  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 #<#%>Y^  
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场景 .Ty,_3+{#p  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 C_-E4I Z)  
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系统构建块
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组件求解器 )F E8D  
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系统构建块 X%`KYo%  
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几何光学仿真 bX&e_Pd  
通过光线追迹 -mC:r&Y>[  
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结果:光线追迹 ?%;B`2 nDR  
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快速物理光学仿真 NxB+?  
通过场追迹 x/_dW  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %09*l%,;  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Ff&R0v  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 7 y>(H<^>  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 p4y6R4kyT  
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总结 LVoyA/ F  
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