hyperlith光刻软件

hyperlith光刻功能 [g@.dr3t  
极紫外光刻 (EUV)   RX,c4;  
严格的 OPC 和源优化 }3S6TJ+  
嵌入式多层镜面缺陷任意缺陷几何形状 iz:O]kI  
可检测性
a!mdL|eA@  
印刷适性 VcORRUp
 
离轴阴影效应、HV 偏差（包括非常量散射系数）吸收器堆栈分析（EM-Stack）吸收器轮廓（侧壁和拐角圆化吸收体缺陷EUV 的 OPC（小面积）多层镜面结构 (PSM) I8XU '  
双重图案   wQrD(Dv(yA  
光刻蚀刻 光刻蚀刻 */ok]kX'  
光刻冻结 光刻蚀刻 FK,Jk04on  
侧壁间隔物 3bR 6Y[  
晶圆形貌效应 fK5iOj'Q  
非平面光阻 JA "  
首次接触时的潜在特征   FfibR\dhY  
相移掩模版 4FcY NJq  
W-ol*
S  
交替 PSM：移位和不移位开场之间的强度不平衡 $m0-IyXcv  
相位缺陷 M6
*8}\  
湿法蚀刻/双沟槽 D
|"^ :Gi  
无铬相光刻 {p7b\=WB-  
衰减相移掩模版 X  m%aT  
脱保护收缩的 NTD j?s+#t  
SEM 诱导收缩 h 7*
#;j  
EUV 和 DUV 的随机效应 Vf`9[*j  
PEB 扩散效应 S3Sn_zqG  
表面抑制 ^A;(#5A]7  
温度效应  4d )Q  
侧壁分析 Yf[GpSej  
内外角偏差分析 br7_P1ep  
拉回 ZsL-vlv  
最高亏损 %^<A`Q_  
uz@WW!+o  
薄膜堆叠分析 E@S5|CM  
:~B'6b  
BARC 优化 b`X"yg+  
多层镜反射率 !_LRuqQ?"  
抵抗厚度效应