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infotek 2024-10-30 16:21

11月课程:杂散光分析与控制技术

时间地点 A'^y+42jY  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司(微信公众号:infotek) \#?n'qyj  
苏州黉论教育咨询有限公司 B b_R~1 l  
授课时间:2024年11月27(三)-29日(五) 共3天 AM 9:00-PM 16:00 Vcm9:,Xlw  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 S:"R/EE(  
课程讲师:讯技光电高级工程师 XT~!dq5  
课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) F@~zVu3'  
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课程简介 N|WZk2 "  
杂光理论和杂光问题研究要从以下几个方面探索:杂散光辐射理论,杂散光合格判定标准、系统杂光测试方法,杂光分析与软件,BSDF与测量数据,杂光抑制设计等。本课程介绍空间光学系统的杂散光来源,以及对红外光学系统成像质量的影响,在简化分析上,讨论了杂散光分析的物理模型,利用已有的光学系统模型讨论了杂散光计算和分析方法。用具体的模型说明杂散光分析和计算假设条件,为以后利用软件进行杂散光分析打下基础。RC望远镜系统,具体突出红外热辐射和冷反射计算,在以往的方法中我们通过计算点列图来实现,但存在诸多的缺陷,如环境与镜筒温度变化、计算量大等缺点,我们将从实际的积分公式出发进行该望远镜系统仿真。 Z/n\Ak sE  
6`Zx\bPDm  
课程大纲 |1iCt1~U  
1. 杂散光介绍与术语 jq#uBU %  
1.1 杂散光路径 {x$jGiag+8  
1.2 关键面和照明面 !#wd~: H  
1.3杂光内部和外部杂散光 #+I)<a7\  
2. 基本辐射度量学-辐射 > 1 {V  
2.1 BSDF及其散射模型 ^vw? 4O  
2.2 TIS总散射概念 ;<i`6e  
2.3 PST(点源透射比) 0n` 1GU)W  
3. 杂散光分析中的光线追迹 Y??8P  
3.1 FRED软件光线追迹介绍 {y-7xg~}  
3.2构建杂散光模型 1#9qP~#]'{  
• 定义光学和机械几何 yU`"]6(@[  
• 定义光学属性 Lx6C fR  
3.3 光线追迹 [ }-CXB  
• 使用光线追迹来量化收敛速度 cyu)YxT  
• 重点采样 .hd<,\nW  
• 反向光线追迹 s wgn( -  
• 控制光线Ancestry以增加收敛速度 f-!t31?XK  
• 使用蒙特卡洛光线劈裂增加收敛速度 MDI[TNYG  
• 使用GPU来进行追迹 j[2?}?  
• RAM内存使用设置 vl+vzAd  
4.散射模型 g|L" |Q  
4.1来自表面粗糙的散射 M`^;h:DN^  
• 低频、中频、高频 H~y 7o_tg  
• RMS粗糙度与BSDF的关系 zOO:`^ m  
• 由PSD推导BSDF =I. b2e 1z  
• 拟合BSDF测量数据 :wtr{,9rZ  
4.2 来自划痕(光学损伤坑)的散射 <7Igd6u  
4.3 来自颗粒污染的散射 doM}vh)6  
• 来自球形颗粒中的散射(米氏散射理论) 29#&q`J  
• 颗粒密度函数模型 XoI,m8A  
• 案例:计算激光通过金属粉尘的吸收 LU "e9  
4.4 来自黑处理表面的散射 G,,c,  
mqPV Eo  
4.5 孔径衍射 an!ceB  
• 杂散光程序中的孔径衍射 :{2exu  
• 衍射元件的衍射特性 (KQAKEhD!  
• 案例:衍射杂散光分析 t<'-?B2g  
5. 大气湍流散射  O+D"7  
6 热辐射 aDr46TB`J  
• 红外热辐射的杂散光分析 "7Qc:<ww  
• 冷反射仿真 ~b L^&o(W  
7. 鬼像反射 Okd?=*sBx  
• 鬼像反射  J`F][ A  
• 表面镀膜 p%Zx<=f-_  
• 表面镀AR增透膜的仿真 #IH7WaN  
8. 光学设计中的杂散光控制 eLC}h %  
8.1使用视场光阑 h|z{ (v  
8.2减小孔径光阑和焦平面间的几何元件数量 O}VI8OB(&  
8.3使用眩光光阑(Lyot stop) erG@8CG  
8.4使用光瞳掩膜来阻止衍射及来自支柱的散射 pC9Ed9uRK  
8.5 使用滤光 w783e  
9. 挡板和冷窗的设计 JUBihw4  
9.1主挡板和冷屏的设计 aBL+i-  
9.2 挡光环的设计 mG;Gt=4  
• 槽型挡光环 ;Kb]v\C:  
• 挡板挡光环最佳孔径、深度、间隔 TM_ MJp  
• 案例:望眼镜系统的挡板的优化 SVvR]T&_  
10. BSDF散射测量
鬼像路径在3D视图中的渲染和照度分析
M+Rxt.~6  
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