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2024-10-16 14:11 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[jD.l;jF 内容简介 AeqxH1 % Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 !H`! KBW 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 O\64)V
0 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 [dje!5Dc( : -@o3Syg
讯技科技股份有限公司 I/ pv0
3[RbVT 目录 >Lh+(M;+F Preface 1 : QK )Ym 内容简介 2 v2>.+Eh# 目录 i Z:l.{3J$ 1 引言 1 T@[(FVA N 2 光学薄膜基础 2 niZ/yW{w 2.1 一般规则 2 nVqFCBB 2.2 正交入射规则 3 69U[kW& 2.3 斜入射规则 6 -[cl]H)V 2.4 精确计算 7 `%lgT+~T 2.5 相干性 8 *(PQaXx4 2.6 参考文献 10 O]OZt,k( 3 Essential Macleod的快速预览 10 H7 acT 4 Essential Macleod的特点 32 E>j*m}b 4.1 容量和局限性 33 \;w+_<zE5{ 4.2 程序在哪里? 33 hadGF%> O6 4.3 数据文件 35 'Ldlo+*|5 4.4 设计规则 35 \de824 4.5 材料数据库和资料库 37 hjB G`S# 4.5.1材料损失 38 2QUZAV\ Y 4.5.1材料数据库和导入材料 39 iyw"|+ 4.5.2 材料库 41 1LTl=tS# 4.5.3导出材料数据 43 @\,WJmW 4.6 常用单位 43 q' };.tv 4.7 插值和外推法 46 mOj6
4}_`" 4.8 材料数据的平滑 50 ='1J&w~7 4.9 更多光学常数模型 54 Gld|w=qr 4.10 文档的一般编辑规则 55 zbt>5S_ 4.11 撤销和重做 56 ipB*]B F[ 4.12 设计文档 57 ;eznONNF 4.10.1 公式 58 [TiOh' 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 =;.#Bds 4.10.3 沉积密度 59 rA9BY :N@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 YYDLFtr2 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 {K-]nh/ 4.10.4 性能 61 ?MevPy`H 4.10.5 保存设计和性能 64 FL5u68 4.10.6 默认设计 64 H
R$\jJ 4.11 图表 64 z= pb<Y@X 4.11.1 合并曲线图 67 j_PICv*6 4.11.2 自适应绘制 68 Fx']kn9 4.11.3 动态绘图 68 Ea@N:t?(8= 4.11.4 3D绘图 69 Sr)rKc 4.12 导入和导出 73 o/EA%q1 4.12.1 剪贴板 73 >#z*gCO5, 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 wy5vn?T@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 IS0RhtGy/ 4.13 背景 77 uX*H2"A 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 zR2'xE* 4.15 生成Rugate 84 1<_i7.{k 4.16 参考文献 91 riqv v1Nce 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 RG=!,#X 5.1 Jobs 92 8M m,a 5.2 创建一个新Job(工作) 93 lgTavs 5.3 输入材料 94 T$/6qZew 5.4 设计数据文件夹 95 0R~{|RHM 5.5 默认设计 95 ;L.@4b[lP 6 细化和合成 97 T69'ta32V 6.1 优化介绍 97 hPt(7E2ke~ 6.2 细化 (Refinement) 98 =/MAKi}g 6.3 合成 (Synthesis) 100 4CO:*qG)o 6.4 目标和评价函数 101 yu~~"Rq) 6.4.1 目标输入 102 gCAWRNp 6.4.2 目标 103 ]Lq9Ompf(t 6.4.3 特殊的评价函数 104
V2kNJwwk 6.5 层锁定和连接 104 _|.q?;C]$ 6.6 细化技术 104 1,fjdd8OM; 6.6.1 单纯形 105 c #+JG 6.6.1.1 单纯形参数 106 HXF5fs 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 `i0RLGze 6.6.2.1 Optimac参数 108 $-9m8}U(Y 6.6.3 模拟退火算法 109 SEQ
bw](ss 6.6.3.1 模拟退火参数 109 SlvQ)jw% 6.6.4 共轭梯度 111 RrSo`q-h+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \MM(w& 6.6.5 拟牛顿法 112 +^hFs7je) 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 eX$P k: 6.6.6 针合成 113 @~Z:W<X 6.6.6.1 针合成参数 114 z-nhL= 6.6.7 差分进化 114 +.MHI 6.6.8非局部细化 115 }~$zdgMT 6.6.8.1非局部细化参数 115 <N^2|*3 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ;1K[N0xE 6.7.1 细化 116 2F+K( 6.7.2 合成 117 y8jk9Tv 6.8 参考文献 117 FQSepUl 7 导纳图及其他工具 118 Kr`Cr5v 7.1 简介 118 B@dA?w.x 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 =if5$jE3 7.2.1 四分之一波长规则 119 -%"Kxe 7.2.2 导纳图 120 G&MI@Hq 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 W@jBX{k 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 z>+@pj
7.5 斜入射导纳图 141 8)3g!3S 7.6 对称周期 141 aB~?Y+m 7.7 参考文献 142 ZZp6@@zyq' 8 典型的镀膜实例 143 :a(er'A 8.1 单层抗反射薄膜 145 <e|I?zI9- 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 EI6K0{'&X 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "1_eZ ` 8.4 W-膜层 148 SUxz &xH 8.5 V-膜层 149 62Yi1<kV@ 8.6 V-膜层高折射基底 150 %gDMz7$~ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ~=i9]%g? 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 5
rkIK 8.9 四层抗反射薄膜 153 ?)k;.<6 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 LDHuf<` 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
7:t+ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 _c?&G` 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ]cLO-A 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 P#bZtWx'<N 8.15十五层宽带抗反射膜 159 0t?: 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 @D&V | |