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2024-09-19 14:10 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
:djbZ>< 内容简介 lcEUK Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 0 1:(QJ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !X+}W[Ic^ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _!^2A3c< 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ~A,(D- :\"g}AX 目录 mjJ/rx{kbw Preface 1 M`QK{$1p 内容简介 2 /R[PsB 目录 i QUz_2rN^ 1 引言 1 =7Sw29u< 2 光学薄膜基础 2 ew*;mQd 2.1 一般规则 2 KBwY _ 2.2 正交入射规则 3 o5< w2( 2.3 斜入射规则 6 *DPKV$ 2.4 精确计算 7 zd?uMq;w 2.5 相干性 8 -'RD%_ 2.6 参考文献 10 :}[D;cx 3 Essential Macleod的快速预览 10 *M+ CA_I( 4 Essential Macleod的特点 32 #gRtCoew 4.1 容量和局限性 33 ky@DH(^> 4.2 程序在哪里? 33 xHWD1> 4.3 数据文件 35 Pt?d+aBtV 4.4 设计规则 35 :0(:}V3 z\ 4.5 材料数据库和资料库 37 2GJp`2(%dA 4.5.1材料损失 38 hXQo>t-$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 wo_iCjmK 4.5.2 材料库 41 @S?D}myD 4.5.3导出材料数据 43 Z]=9=S|
.4 4.6 常用单位 43 .
/~# 4.7 插值和外推法 46 ?tf<AZ=+^L 4.8 材料数据的平滑 50 V; 1i/{ 4.9 更多光学常数模型 54 MFsW 4.10 文档的一般编辑规则 55 f^ 6da6Z 4.11 撤销和重做 56 [OQ+&\ 4.12 设计文档 57 Rmh u"N/q 4.10.1 公式 58 `bcCj~j 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7:X@lmBz= 4.10.3 沉积密度 59 !k=~a] 4.10.4 平行和楔形介质 60 77~l~EX 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 <O9.GHV1v 4.10.4 性能 61 F/0x`l 4.10.5 保存设计和性能 64 & 6~AY:0r 4.10.6 默认设计 64 r9$7P?zm 4.11 图表 64 m'5rzZP 4.11.1 合并曲线图 67 jjJ l\Vn 4.11.2 自适应绘制 68 $jL+15^N0+ 4.11.3 动态绘图 68 BH^8!7dkT 4.11.4 3D绘图 69 q=_tjg 4.12 导入和导出 73 rI4N3d;C 4.12.1 剪贴板 73 ej{7)# 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 <PXnR\ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 02~GT_)$^ 4.13 背景 77 h"ko4b3^'@ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ZIvP?:=! 4.15 生成Rugate 84 HD9+4~8 4.16 参考文献 91 E/uKzzD9 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 H"%SzU 5.1 Jobs 92 ,v>|Ub, 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ~VaO,8&+L 5.3 输入材料 94 <"
F|K!Tz 5.4 设计数据文件夹 95 4dUr8]BkG 5.5 默认设计 95 Dp"
xO<PE2 6 细化和合成 97 eVujur$P 6.1 优化介绍 97 cO/.(KBF 6.2 细化 (Refinement) 98 a$h
zG- 6.3 合成 (Synthesis) 100 il>XV> 6.4 目标和评价函数 101 -
u'5xn7 6.4.1 目标输入 102 OQa;EBO 6.4.2 目标 103 iV8O<en&i 6.4.3 特殊的评价函数 104 :H`Z.>K 6.5 层锁定和连接 104 50^T\u 6.6 细化技术 104 $sBje*; 6.6.1 单纯形 105 iXFN|ml 6.6.1.1 单纯形参数 106 Ikj_
0/%F 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 e8$OV4X 6.6.2.1 Optimac参数 108 O7GJg;>? 6.6.3 模拟退火算法 109 y|[YEY U) 6.6.3.1 模拟退火参数 109 #J)83 6.6.4 共轭梯度 111 7T-}oNaJA\ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 )Qx&m} 6.6.5 拟牛顿法 112 JBvP {5 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 _!C'oG6s? 6.6.6 针合成 113 UA$Xa1 6.6.6.1 针合成参数 114 ik Pm,ZN 6.6.7 差分进化 114 NlV,]
$L1T 6.6.8非局部细化 115 xlU:&=| 6.6.8.1非局部细化参数 115 0I
\l_St@ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 /J` ZO$ 6.7.1 细化 116 ^=gzms 6.7.2 合成 117 kmfxk/F} 6.8 参考文献 117 f+j-M|A 7 导纳图及其他工具 118 p:q?8+W-r 7.1 简介 118 DqTp*hI 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 )#_:5^1 7.2.1 四分之一波长规则 119 2v9T&xo= 7.2.2 导纳图 120 1!`B8y) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 E]IPag8C 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 o
9] 2 7.5 斜入射导纳图 141 Zfub+A 7.6 对称周期 141 ]^
"BLbDZ@ 7.7 参考文献 142 v05B7^1@_ 8 典型的镀膜实例 143 R2!_)Rpf 8.1 单层抗反射薄膜 145
*^b<CZd9 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 bP8O& | |