H4冲氧不稳，应该怎么排除？

我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控，设计充到1.0-2，但每一锅都不太稳定，有时候充到7.5-3，有时候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手动熔的，一般就镀普通AR,导致分光变来变去，稳定不住，请教大佬们，这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题？应该怎么排除？

renlgj	2024-09-16 15:37
坐等分析

yzhuang	2024-09-20 09:09
控制软件PID参数调整一下，一般是可以恒压的，当然，如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 \|b.z*G

度魔银	2024-09-20 09:54
1.手动融料重复性不好 Qvqqvk_tv 2镀膜机真空度是否有漏气现象 1W,(\'^R 3.充氧控制改固定参数 x` /)g( 4.真空计污染导致真空不准确

bilong	2024-09-20 16:10
yzhuang:控制软件PID参数调整一下，一般是可以恒压的，当然，如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 ?=On%bh (2024-09-20 09:09) _elX<o4 _GA$6#] 感谢回复，我们这个只能设定数值，PID调不了

bilong	2024-09-20 16:12
度魔银:1.手动融料重复性不好 <z)m%*lvU 2镀膜机真空度是否有漏气现象 qRB7Ec_ 3.充氧控制改固定参数 kuMKX`_ 4.真空计污染导致真空不准确 (2024-09-20 09:54) >)nS2bOE Im72Vt:p- 感谢回复，我们先定量充氧试试

ouyuu

2024-10-22 22:50

真空计和冲氧口的位置和距离很重要，如果压力周期性波动的话，就调整真空计位置。
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。
真空计一般是用电压信号，要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。
另外要排除信号干扰，如果真空信号受干扰了，那么肯定无法稳定的进行控制。
最后一个应该就是压控仪本身的问题，比如PID参数过大导致调节缓慢。

bilong

2024-10-23 10:02

ouyuu:真空计和冲氧口的位置和距离很重要，如果压力周期性波动的话，就调整真空计位置。 .8gl< vX
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 IzLF'F
真空计一般是用电压信号，要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 fC-P.:F#I
另外要排除信号干扰，如果真空信号受干扰了，那么肯定无法稳定的进行控制。 LO%!Z,}
最后一个应 .. (2024-10-22 22:50) w`HI]{hE~N

感谢大佬解惑，充氧口是固定的，真空计玻璃规的位置我们每次换没注意位置，才知道这个也会影响真空数据，我们现在定量充氧40，分光比原来稳定了很多，但每层H4充氧后的真空度都有差异

renlgj	2024-10-26 12:47
学习中成长

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