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infotek 2024-08-22 07:58

衍射级次偏振状态的研究

摘要 Ppi-skT  
\E ? iw.}  
光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 O>tC]sm%  
B6Wq/fl/  
mTI\,x%<OC  
概述 O,V6hU/ *  
GDNh?R  
a V+o\fId  
•本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 /eU1(oo&`5  
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 QTrlQH&p  
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 Jm*M7g j  
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' Z(MV&  
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衍射级次的效率和偏振
ib""Fv7{  
|R &3/bEr  
9FIe W[  
•通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 %FR^[H]  
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 7am/X.  
•在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 67K RM(S  
•因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 + 8K1]'t$  
•特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 fW4cHB 9|  
^! v}  
HqnKpZ  
光栅结构参数 wn A%Nh7  
r%m7YwXo  
C&CsI] @g  
•此处探讨的是矩形光栅结构。 ;ow~vO,x  
•为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 yBD2  
•因此,选择以下光栅参数: H2FFw-xW  
- 光栅周期:250 nm D-b2E6 o6  
- 填充系数:0.5 +=B}R  
- 光栅高度:200 nm ~y-vKCp|  
- 材料n1:熔融石英 E;GR;i{t  
- 材料n2:TiO2(来自目录) PhI6dB`  
d;NFkA(df  
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偏振状态分析 \w0b"p  
x[O#(^q  
?3"D| cS1  
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 BHJ'[{U*w  
•如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 :hhE=A>X  
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 7N59B z  
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产生的极化状态 J PzQBc5e  
f;tyoN0wHx  
~q_+;W.  
D`~{[cv)\  
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其他例子 kj3o1Y  
r)#"$Sm  
ng&EGM  
•为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 /4B4IT  
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 yL3<X w|  
`F+x]<m!  
Va |9)m  
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光栅结构参数 548 [! p4  
n-b<vEZw#  
% 6hw  
•在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 IL6f~!  
•由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ME10dr  
•由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 `7qp\vYL  
•当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 mv%:[+!  
?.Yw%{?TG  
> v!c\  
光栅#1 JJHvj=9'o  
Y\z\{JW  
o(>-:l i0  
V&+$V q  
yDyeP{  
•仅考虑此光栅。 C94UF7al  
•假设侧壁表现出线性斜率。 ;7n*PBUJJ  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 dbUZGn~  
•为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 &P{p\v2Y  
F%+rOT<5  
6L> "m0  
假设光栅参数: eW*ae;-  
•光栅周期:250 nm ;{q) |GRF  
•光栅高度:660 nm )(!Z90@  
•填充系数:0.75(底部) .f<VmUca  
•侧壁角度:±6° .yfqS|(  
•n1:1.46 )>M@hIV5>  
•n2:2.08 Ce'2lo  
m3xj5]#^$  
光栅#1结果 ~W*j^+T"  
l 75{JxZX  
y3[)zv  
•左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ;$L!`"jn  
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 |Sv#f2`  
•与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
{ZM2WFpE  
RGA*7  
-zLI!F 0  
F4<2.V)#-  
光栅#2 E,"btBg  
y'O{8Q8T  
0#/ 6P&6  
c2mt<DtWW  
cA SHgm  
•同样,只考虑此光栅。 ftH%, /,  
•假设光栅有一个矩形的形状。 "sx&8H"  
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 J$/BH\  
假设光栅参数: :aqskeT  
•光栅周期:250 nm UR2)e{RXg  
•光栅高度:490 nm 'CO[s.03  
•填充因子:0.5 !K~$ -jlT  
•n1:1.46 EEZ2Gu6c  
•n2:2.08
}<h. chz,  
gG;W:vR}l  
光栅#2结果 C$ `Y[w  
:Sn3|`HDm  
4"(zi5`e  
•同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 N~J Eia%  
•相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ;/q6^Nk3A  
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 "}+/ 0$F  
Hf{%N'4  
O:p649A  
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