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2024-08-22 07:58 |
衍射级次偏振状态的研究
摘要 30-XFl -MbnYs) 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 )7<JGzBZ1 5JK{dis]k
Q1 mz~r 概述 ;+>-uPT/1 5u'"m<4 pFXDo4eH •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 J!3 X}@_N •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 k|F<?:C •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 *>n<7T0 !lG5BOJM
IFlDw}M!9 s4Lqam! 衍射级次的效率和偏振 J
[J, z\*ii<-@ vg &Dr •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 \|BtgT *$b •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 'IY?7+[ •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 DNcf2_m •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 lsU|xOB •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 %k_R;/fjW
<%#M&9d)E tH,}_Bp 光栅结构参数 rY4{,4V B4bC6$Lg YQ}Rg5o •此处探讨的是矩形光栅结构。 {1li3K&0s •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 >KH.~Jfy •因此,选择以下光栅参数: \\AufAkJ - 光栅周期:250 nm T~J6(," - 填充系数:0.5 ~Os"dAgZFY - 光栅高度:200 nm FUkO$jnO - 材料n1:熔融石英 kzny4v[y - 材料n2:TiO2(来自目录) 1Y6<i8 |&`NB|
\-a^8{.^E vz#VW 偏振状态分析 N%v}$58Z AP'UcA U']DB h •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 %W~Kx_ •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 FPE[} •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 Qu,W3d B!0o6)u'
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acm5dN 产生的极化状态 HhDiGzOSi }-?_c#G3
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Z;}&
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}u:@:}8K j9)P3=s 其他例子 ];i-d7C r1b{G%;mJ B38_1X7 •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 xy)Y)yp •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 CG*eo!Nw (JHzwI8+
23?\jw3w eQ`TW'[9_6 光栅结构参数 fgIzT!fyz 1wP#?p)c rCU f,) •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 )#n0~7
& •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 )w(-Xc?P •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Kq#\P •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ^ZV1Ev8T6
MkgeECMf ,e$]jC<sv2 光栅#1 )'3(=F$+l (8qD'(@
H&\[iZ|-N #=C!Xx& Q%)da)0:c •仅考虑此光栅。 l/0"'o_0v# •假设侧壁表现出线性斜率。 2Z K:S+c •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 lx_jy>$}r •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 kx&Xk0F_g )d5Hv2/0 JAJo^}}{b 假设光栅参数: C^9G \s' •光栅周期:250 nm >a/]8A •光栅高度:660 nm q-gp;Fm •填充系数:0.75(底部) dz@L}b* •侧壁角度:±6° HwfBbWHr' •n1:1.46 x}v]JEIf[Q •n2:2.08 :cU6W2EV {=mf/3.r 光栅#1结果 ~,[-pZ< 4M4Y2fBH h0}r#L •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 /$
Gp<.z •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 q)0?aL •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 ?^I\e{),c r9nH6 Md\
7Nx5n< KglL@V7 光栅#2 1./uJB/ Su.imM!
yF2|w=! n^vL9n_N pT3p!/pl3 •同样,只考虑此光栅。 ]^aOYtKX •假设光栅有一个矩形的形状。 12l-NWXf •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 -M=#U\D 假设光栅参数: C>l{_J)n •光栅周期:250 nm PP/EZ ^]b •光栅高度:490 nm R>Q&Ax •填充因子:0.5 =AEl:SY+ •n1:1.46 t6-He~ •n2:2.08 <X@XbM pc9m,?n 光栅#2结果 i,#j@R@.C7 0X \OQ; ((KNOa5 •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 ;rwjqUDBz •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 2cv!85 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 X}"Ic@8 K>%}m,
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