| infotek | 2024-08-20 07:55 |
高NA物镜聚焦的分析高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。  建模任务  概观  光线追迹仿真 •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 •点击Go！ •获得3D光线追迹结果。  光线追迹仿真 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 •单击Go！ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。  场追迹仿真 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 •单击Go！  场追迹结果（摄像机探测器） •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。  场追迹结果（电磁场探测器） •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。  |
|