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2024-08-13 07:56 |
使用界面配置光栅结构
摘要 <m0=bm{j FAdTp.
光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 $inKI I`s~.fZt
T`,G57-5 bc NyB$S 本用例展示了...... Igw2n{})w •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: =A~5?J= - 矩形光栅界面 B%`|W@v - 过渡点列表界面 M`7[hr - 锯齿光栅界面 a^\F9^j - 正弦光栅界面 t1~k+ •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 C+>mehDC_G A'Z!l20_ 光栅工具箱初始化 9g#
62oIg •初始化 #s' `bF^ - 开始 F+?i{$ 光栅 C,%Dp0 通用光栅光路图 -8vGvI> •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, 5s;@ ;V 可直接选择特定的光路图。 :hcOceNz TU;AO%5
#DARZh U) '+ mI
光栅结构设置 :5'hd^Q •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 Y+kuj],h
gI9nxy •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 ?* r •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 ,7 m33Pv* 4sX?O4p
+Z-{6C $at\aJ •例如,选择第一个界面上的堆栈。 [ w-Tf& Ui-Y` 堆栈编辑器 e@]m@ •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 1r*yYm' •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 (kyRx+gA K>5bb
Yakrsi/jV} S6\E
I5S 矩形光栅界面 [O} D^qp w~+\Mf z •一种可能的界面是矩形光栅界面。 65VTKlDD •此类界面适用于简单二元结构的配置。 qx9;"Ut •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 #T8jHnI •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 B5h)F> &G •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 MxUQ F?@6 >wL!`:c'"
B*E"yB\NV ("{vbs$; 矩形光栅界面 IP-M)_I •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 b6H7>x •所选界面在视图中以红色突出显示。 Vq/hk
qT:`F •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 1(*+_TvZ •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 [Jjo H1E@
QFN 9j •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 ~|"uuA1/#O •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 A|@d{g •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 Fp"c { fZS'e{V
.wTb/x xRO9o3
F&^&"(H} :oYSvK7> 矩形光栅界面参数 @3 + •矩形光栅界面由以下参数定义 9eE
FX7 - 狭缝宽度(绝对或相对) ?B)e8i<[f - 光栅周期 ,1-idpnX - 调制深度 DHyQ:0q •可以选择设置横向移位和旋转。 ftRdK>a
D (lq%4h
+z#+}'mT% W>c*\)Xk ! 高级选项和信息 __uk/2q •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 Lpnw(r9Y •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 {w,<igh •可以设置总级次数或衰逝波级次数 <VQ@I (evanescent orders)。 !}c\u •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 x%T^:R •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 gx eu2HG !\$4A,
^JY:$)4[" _5p]Arg?}& •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 5p-vSWr! •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 cg_tJ^vrY •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 Se\iMs •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 o/vD]Fs gdh|X[d
0C"2?etMx VP ?Q$?a 过渡点列表界面 /Tw $}8 •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 vfVF^
WOd •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 Wcl =YB% •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 VG$%Vs
P.=Dd"La CSwB+yN 过渡点列表参数 xa
!/. •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 onS4ZE3B •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 }XRfHQk Q&PEO%/D
OU^I/TU An,TunX •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 '^O}` •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 @ kba^z •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 0&Iu+hv |="Y3}a
h^w# I cA]PZ*]{BN 高级选项及信息 nn">
•同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 p}K+4z 83'rQDo)G
|uRYejj#j KEq48+j 正弦光栅界面 EIg:@o&Jj •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 Y]B9*^d< •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 &s\/Uq •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: ?fpI,WFu - 脊的材料:基板的材料 4s <ZKU - 凹槽材料:光栅前面的材料 3XUsw1,[ N~(?g7
Gq?>Bi;` w'mn O'% 正弦光栅界面参数 x51xY$M - 正弦光栅界面也由以下参数定义: Ro2!$[P •光栅周期 2e({%P@2? •调制深度 "M %WV> - 可以选择设置横向移位和旋转。 H]M[2C7#N - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 y99|V39' COH>B1W@
)S@TYzdAN 'm/`= QX 高级选项和信息 #g1,U7vv8 •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 RTL@WI HLq2avs\
E1qf N>0Z 8` WaUB% 高级选项及信息 o4aFgal1 •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 'puiahA 4X>=UO``L
N'%l/ 锯齿光栅界面 @4]dv> Z •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 XIp>PcU^ •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 Y1{*AV6ev6 •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: &Z7 NF| - 脊的材料:基板的材料 =~k#<q1^ - 凹槽材料:光栅前面的材料 l<s6Uu" [*Vo`WgbD
!XF:.| :8lqo%5 锯齿光栅界面参数 ):5H,B+Vr& •锯齿光栅界面也由以下参数定义: ]%h|ox0 - 光栅周期 Q\2~^w1V - 调制深度 D<bHRtP •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 e:n3@T,R •可以选择设置横向移位和旋转。 @dvb%A&Pur •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 /f! ze| IvB)d}p
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veCi_ 9XN/ wp 高级选项和信息 H+VjY MvK •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 [4\n(/
}h9f(ZyJn 探测器位置的注释 5
r&n 关于探测器位置的注释 VCvFCyAz •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 ;:w0%>X^ •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 PW"uPn •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 0G#s/u# •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。
g6;a2 •可以避免这些干涉效应的不良影响。 `4t*H>:y
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