培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月16日-18日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 So8
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课程大纲 al-r gh
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第一天 GN9kCyPK
• 光学和光线追迹的入门概念 RPte[tq
• ASAP 简介 JAP(J~
• ASAP 数据输入 s,8zj<dUv
• 单透镜辐射计示例 w= n(2M56C
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 AO]cnh C
• 几何规范和通用几何设置 OXb ShA&1
• 光学特性 %=Z/Frd
• 光源设置 CfSP*g0rW
• 光线追迹 P\<:.8@$S
• 系统分析与评价 Ox&G
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• 光线分裂和接收属性 i%i />;DF
• ASAP 宏语言 .|5$yGEF_+
• 散射模型和重点采样 o|xZ?#^h
• 光线路径 | 3yG
第二天 6}e*!,2Xj
散射杂散光： v=0G& x=/
• 杂散光术语 h~](9 e s
• 杂散光的成因和影响 KR%WBvv
• 杂散光分析和评价方法 Bt(<Xj D
• ASAP杂散光分析流程、步骤 ~6@`;s`[Y
• 关键和照明表面 Xa.8-a"hz
• 重点采样位置和大小计算 6 h,!;`8O
• 杂散光PST计算 {G LGDEb
• 光学表面粗糙、污染和微粒 dpsc gW{M
• 表面黑化处理 %)?jaE}[
鬼像： eh `%E0b}
• 鬼像的来源 X~c?C-fV
• ASAP膜层 3Cc#{X-+
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 FX|&o >S(8
第三天 dzPewOre*
衍射和红外杂散光： )%MC*Z :^
• 孔径衍射 Y$\|rD^ f
• 衍射光学元件的杂散光 ow{. iv\,u
• 红外系统杂散光特征 $HsNV6
• 红外热辐射 2M'dT Xz
• 自发辐射杂散光 /*,_\ ;
• 红外冷反射 ?z&% VU"
杂散光工程： _UP fqC ?
• 杂散光的控制方法 ~"#HHaBO#
• 散射测量 , >S7c
• 杂散光工程流程总结和答疑 HNv~ZAzBG-
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培训说明 4,c6VCw3+
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； w,FPL&{
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； -|uoxj>
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 tMX$8 W0
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培训详情 CL4N/[UM
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培训时间：2024年10月16日-18日 ~Q]5g7k=&
培训地点：湖北·武汉 cS9 jGD92
主办单位：武汉墨光科技有限公司 Dz6x x?
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 ; s/<wx-C
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； uoI7'
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团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； @|vH5Pi
提供服务性发票，项目“培训费”。 ^.!jD+=I
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com WXY '%G
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