培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 9"H]zfW
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课程大纲 @,Iyn<v{B
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第一天 GuV.7&!x
• 光学和光线追迹的入门概念 ~P47: IZf
• ASAP 简介 x dT1jI
• ASAP 数据输入 cBO.96ZHE
• 单透镜辐射计示例 <=D\Ckmb
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 C#r1zr6
• 几何规范和通用几何设置 mct$.{~
• 光学特性 h}k/okG
• 光源设置 5V U
5kiCt
• 光线追迹 g.3a5#t
• 系统分析与评价 FSs<A@
• 光线分裂和接收属性 l1&NU'WW
• ASAP 宏语言 )e$}sw{t
• 散射模型和重点采样 FG^ Jh5
• 光线路径 YQ&W w|xe
第二天 Vg 6/ 1 I
散射杂散光： \Tc<27 -
• 杂散光术语 +ti_?gfx
• 杂散光的成因和影响 e-Xr^@M*Q
• 杂散光分析和评价方法 Lad8 C
• ASAP杂散光分析流程、步骤 & .zG?e.
• 关键和照明表面 J\kG D
• 重点采样位置和大小计算 _NfdJ=[Xh
• 杂散光PST计算 eCDwY:t`
• 光学表面粗糙、污染和微粒 A{HP*x~t
• 表面黑化处理 [ p+]H?(A
鬼像： @2Lp I*]C
• 鬼像的来源 m+t<<5I[-
• ASAP膜层 J-6l<%962%
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 5 (Lw-_y#
第三天 &D X&*Xq2
衍射和红外杂散光： (Q_J{[ F
• 孔径衍射 H+ P&}
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• 衍射光学元件的杂散光 PJ-EQ6W
• 红外系统杂散光特征 m44"qp
• 红外热辐射 59L v/Mfy
• 自发辐射杂散光 M@k8 ;_5
• 红外冷反射 EpX.{B@B_[
杂散光工程： MY 8[)<q"
• 杂散光的控制方法 Y ]xFe >
• 散射测量 -W/Lg5eK
• 杂散光工程流程总结和答疑 M+7&kt 0;
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培训说明 hu ]l{TXi
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； E%[2NsOM]
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 {D c{e5K
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培训详情 0 tL#-47
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培训时间：2024年10月14日-16日 w$XqxI/&
培训地点：湖北·武汉 J v,*rQH
主办单位：武汉墨光科技有限公司 o9<)rUy
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 ` XvuyH
培训费用：按2800元/人的标准进行收费；
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团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； =t/ "&[r
提供服务性发票，项目“培训费”。 LpQ=Y]{j
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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