培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启!
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间,时间缩短,课程凝练,培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习,讲师现场互动答疑,旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 QG]*v=Z Rap =&
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课程大纲 r.10b]b
Y}hz UKJ 第一天 'l41];_ • 光学和光线追迹的入门概念 tK LAA+Z • ASAP 简介 Q^|aix~ K • ASAP 数据输入 W't.e0L<6 • 单透镜辐射计示例 M^?=!!US^ • ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 k}908%w • 几何规范和通用几何设置 q@%9Y3 • 光学特性 39Zs • 光源设置 l
EsE]f • 光线追迹 3=Va0}#& • 系统分析与评价 qp`G5bw • 光线分裂和接收属性 -) \!@n0 • ASAP 宏语言 ,}HnS)+ • 散射模型和重点采样 hZDv5]V:0 • 光线路径 _^Lg}@t 第二天 SX6P>:` 散射杂散光: d
A' h7D • 杂散光术语 *+>R^\uT • 杂散光的成因和影响 c[E>2P2-_ • 杂散光分析和评价方法 P(XNtQ= K • ASAP杂散光分析流程、步骤 ^
^R4%C • 关键和照明表面 +{/*P5 • 重点采样位置和大小计算 VkDFR
[k_ • 杂散光PST计算 ^`Qh*:T$ • 光学表面粗糙、污染和微粒 @V5'+^O • 表面黑化处理 V[BlT|t 鬼像: }hX"A!0 • 鬼像的来源 9KLhAYaq • ASAP膜层 +H8;*uZ|k, • ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 `Ef&h V 第三天 Gj(UA1~1 衍射和红外杂散光: D[iIj_CKQ • 孔径衍射 hR3Pa'/i • 衍射光学元件的杂散光 ;3k6_ub • 红外系统杂散光特征 tmf=1M • 红外热辐射 DU:
sQS4 • 自发辐射杂散光 Zjh9jvsW • 红外冷反射 DozC> 杂散光工程: !B\[Q$ • 杂散光的控制方法 )#n>))
• 散射测量 %D:5 S?{ • 杂散光工程流程总结和答疑 >5!/&D.q Cb/?hT
培训说明 v__;oqN0 G$HLta • 为达到培训效果,均为小班授课模式,名额有限,报名从速;• 培训方安装最新正版软件,提供标准 ASAP 教材; JI}p{yI • 学员自备笔记本电脑,培训结束后合格者颁发培训证书。 R(sa.Q\D4 /+F|+1
培训详情 ^. i;, lZupn? 培训时间:2024年10月14日-16日 mmn1yX:d 培训地点:湖北·武汉 dLek4q
`l 主办单位:武汉墨光科技有限公司 "UY.;
P 培训讲师:武汉墨光资深光学设计工程师 7F{=bL 培训费用:按2800元/人的标准进行收费; TAt9+\' 团体(3人及以上)报名享八五折优惠,不与墨光其他优惠同时使用; ,-XJ@@2gM 提供服务性发票,项目“培训费”。 4';]fmf@[i 报名方式:电话:13396044940 邮箱:market@asdoptics.com
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