培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年10月14日-16日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 x[y}{ T
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课程大纲 B p_8PjQ
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第一天 ' Tk4P{
• 光学和光线追迹的入门概念 O I0N(V
• ASAP 简介 hD[r6c
• ASAP 数据输入 BM{*5Lf
• 单透镜辐射计示例 nMJ ( tQ
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 )<f4 F!?,A
• 几何规范和通用几何设置 (HXKa][T
• 光学特性 Hr7?#ZX;e
• 光源设置 lNsdbyV'
• 光线追迹 !|l7b2NEz-
• 系统分析与评价 I+F >^4_d
• 光线分裂和接收属性 kL F~^/
• ASAP 宏语言 '5b0 K1$"
• 散射模型和重点采样 Qo!F?i/ n
• 光线路径 Dkx}}E:<
第二天 {;|pcx\L6~
散射杂散光： ))dw[Xa
• 杂散光术语 C+t0Ze n
• 杂散光的成因和影响 %
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• 杂散光分析和评价方法 tLU@&NY `
• ASAP杂散光分析流程、步骤 ZXN `8!]&
• 关键和照明表面 ^s#+`Y05/
• 重点采样位置和大小计算 /i dI-
• 杂散光PST计算 F!ph Tu
• 光学表面粗糙、污染和微粒 "TP~TjXf q
• 表面黑化处理 &Z3%UOY
鬼像： 4x<H=CJC
• 鬼像的来源 d >NO}MR
• ASAP膜层 6"o=`Sq
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 Wx8:GBM$ 2
第三天 3AglvGK7{
衍射和红外杂散光： }]#z0'Aqsu
• 孔径衍射 Rc3!u^?u
• 衍射光学元件的杂散光 ?PS?_+E\L
• 红外系统杂散光特征 t%G.i@{pkp
• 红外热辐射 MGq\\hLD\-
• 自发辐射杂散光 IN@o9pUjV
• 红外冷反射 9 XYm8g'X
杂散光工程： Id Mwpru(
• 杂散光的控制方法 G'u[0>
• 散射测量 F: d2 ;
• 杂散光工程流程总结和答疑 ,(Ol]W}
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培训说明 SSCs96
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• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； O9zMD8
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 \<(EV,m 2
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培训详情 + kT ]qH
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培训时间：2024年10月14日-16日 P
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培训地点：湖北·武汉 #rF`Hk:
主办单位：武汉墨光科技有限公司 X.S<",a{qz
培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 &tvtL
培训费用：按2800元/人的标准进行收费； %gs?~Xl)]
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； QuG"]$
提供服务性发票，项目“培训费”。 M]p-<R\
报名方式：电话：13396044940 邮箱：market@asdoptics.com
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