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chenliang1990	2024-06-24 11:54
镀膜后环测双85实验，外观有水渍点无法去除，什么原因？镀膜设备，光驰OTFC，工艺条件：Ta2O5+SIO2, 温度：320℃，射频源 T <J%\|d .' [attachment=129112] qC<!!473? Ck<g0o6 [attachment=129111]

ouyuu	2024-07-15 16:21
两个可能。1，离子源的中和电流不够，导致膜内有电荷积聚，调大中和电流试试。 (KQAKEhD! 2，片子洗净的问题，镀前用离子源多轰一下，看看有没有改善。 RDX".'`(= =pHWqGOD 另外中和器偶尔的打火也有可能造成电荷积聚，但这个不会每炉都会实现。 _c\|aRRW

renlgj	2024-07-18 19:11
学习中，谢谢楼上各位

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