离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 HVz,liq  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） .).*6{_  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 )t/[z3rn  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  QvF UFawN  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 ye9-%~sjX  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） \\qw"w9  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 6^L4wd7)  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  } r#by%P