离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 M }d:B)cz  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） r%ES#\L6+|  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 !V37ePFje  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  L4g%o9G  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 pSw/QO9  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） *Y m?gCig  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 "#j}F u_!  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  d,"LZ>hNY*