离子源前处理时间问题

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 {^Q,G x(  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） %O!xrA{  
2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 'JgCl'k,  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  3{qB<*!p"G  

ouyuu:和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 #Muh|P]%\  
1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） J"
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2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 +*`kJ)uP  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  )/[L)-~y~