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2024-05-09 08:56 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=128447] 4[r0G+ 内容简介 2;`1h[,-^ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 dq6m>;` 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 N)| yu1S 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 kx{{_w 目录 /4V#C- Preface 1 6I4\q.^qw 内容简介 2 qJs<#MQ2 目录 i wu!59pL 1 引言 1 sqwGsO$# 2 光学薄膜基础 2 zkrM/ @p# 2.1 一般规则 2 6 7.+
.2 2.2 正交入射规则 3 3{64 @s 2.3 斜入射规则 6 bdrg(d6 2.4 精确计算 7 %D34/=(X 2.5 相干性 8 [wOn|)&
& 2.6 参考文献 10 9';JXf$ 3 Essential Macleod的快速预览 10 ItVWO:x&v 4 Essential Macleod的特点 32 'RR~7h 4.1 容量和局限性 33 k68T`Ub\W6 4.2 程序在哪里? 33 d#Y^>"|$. 4.3 数据文件 35 OA1uY83" 4.4 设计规则 35 yCR?UH; 4.5 材料数据库和资料库 37 Lc,Pom 4.5.1材料损失 38 m+R[#GE8# 4.5.1材料数据库和导入材料 39 jl$ece5v 4.5.2 材料库 41 rig,mv 4.5.3导出材料数据 43 t;Sb/ 3 4.6 常用单位 43 `/XY>T}- 4.7 插值和外推法 46 M61xPq8y5 4.8 材料数据的平滑 50 Su7?;Oh/yI 4.9 更多光学常数模型 54 bKY7/w<dP 4.10 文档的一般编辑规则 55 X,_2FJv 4.11 撤销和重做 56 .-c4wm} 4.12 设计文档 57 nI-w}NQ 4.10.1 公式 58 9'giU r 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /QWvW=F2< 4.10.3 沉积密度 59 KIf dafRL 4.10.4 平行和楔形介质 60 1\~ "VF*{ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 VcO0sa f` 4.10.4 性能 61 -q1??u 4.10.5 保存设计和性能 64 vhW2PzHFRi 4.10.6 默认设计 64 oXh#a8 4.11 图表 64 \BTODZ:h 4.11.1 合并曲线图 67 uAJx.>$b 4.11.2 自适应绘制 68 D 6Ui! 4.11.3 动态绘图 68 9igiZmM 4.11.4 3D绘图 69 m)t;9J5 4.12 导入和导出 73 Y-_`23x` 4.12.1 剪贴板 73 jh%Eq+#S 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 z6=Z\P+ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 RuA*YV 4.13 背景 77 @ $ ;q; 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 { ]{/t-= 4.15 生成Rugate 84 i{NzV 4.16 参考文献 91 /wEhVR`= 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 v5#jZ$<F 5.1 Jobs 92 %COX7gV 5.2 创建一个新Job(工作) 93 *20jz< 5.3 输入材料 94 FEz-+X<q2 5.4 设计数据文件夹 95 4i azNl# 5.5 默认设计 95 5oW!YJg 6 细化和合成 97 s4y73-J^.v 6.1 优化介绍 97 pYZmz 6.2 细化 (Refinement) 98 KE5kOU; 6.3 合成 (Synthesis) 100 *=/ { HvJ 6.4 目标和评价函数 101 -hGk?_Nqa/ 6.4.1 目标输入 102 3tIVXtUCUk 6.4.2 目标 103 x;P_1J%Q 6.4.3 特殊的评价函数 104 /tx]5`#@7] 6.5 层锁定和连接 104 6$Xzpg(o 6.6 细化技术 104 yiXSYD 6.6.1 单纯形 105 |^"1{7) 6.6.1.1 单纯形参数 106 [I,Z2G,Jb 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ;>EM[u 6.6.2.1 Optimac参数 108 7hD>As7`/ 6.6.3 模拟退火算法 109 2/\r)$
2i 6.6.3.1 模拟退火参数 109 o4F2%0gJ 6.6.4 共轭梯度 111 pHXm>gTd,J 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 |}s*E_/[ 6.6.5 拟牛顿法 112 NqazpB* 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 &WuN&As!Z 6.6.6 针合成 113 58tARL Dr 6.6.6.1 针合成参数 114 Ha0M)0Anv 6.6.7 差分进化 114 9iIhte. 6.6.8非局部细化 115 m<T%Rb4?@ 6.6.8.1非局部细化参数 115 %op**@4/t\ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 1y@i}<9F 6.7.1 细化 116 Xv5wJlc!d 6.7.2 合成 117 mW(W\'~_~ 6.8 参考文献 117 ]3],r ?-tJ 7 导纳图及其他工具 118 p?%y82E 7.1 简介 118 Olt?~} 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 8`B3;Zmm 7.2.1 四分之一波长规则 119 ?4#Li~q 7.2.2 导纳图 120 B:yGS*.tu 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 hB]Np1(' 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 @su^0 9n 7.5 斜入射导纳图 141 O'p9u@kc 7.6 对称周期 141 ios&n)W& 7.7 参考文献 142 KI iO 8 典型的镀膜实例 143 a8e6H30Sm 8.1 单层抗反射薄膜 145 ed{ -/l~j 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 fM :]& 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >-RQ]?^ 8.4 W-膜层 148 4<w.8rR:A 8.5 V-膜层 149 Af~$TyX 8.6 V-膜层高折射基底 150 av8B-GQI*# 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 )5Q~I,dP 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 9IdA%RM~mH 8.9 四层抗反射薄膜 153 CAig]=2' 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 +6M}O[LP 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 "rALt~AX 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 "+R+6< | |