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infotek 2024-03-27 08:03

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 @}FRiPo6  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 _-D(N/  
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场景 M0^r!f>O  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 <cl$?].RE!  
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系统构建块 \>\w-ty[(  
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组件求解器 QZDGk4GG  
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系统构建块 d 5Il0sG  
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总结 VB[R!S=  
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几何光学仿真 \f+R!  
通过光线追迹 B$7lL  
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结果:光线追迹 M14pg0Q  
 R,y8~D  
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快速物理光学仿真 uH]^/'8vBd  
通过场追迹 K7CiICe  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Uz1u6BF  
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S46[2-v1  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 of(Nq@  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #8[,w.X  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 #?aR,@n  
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总结 5|AZ/!rb  
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