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infotek 2024-03-27 08:03

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 4 %)N(%u  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 VkDS&g~Ws  
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场景 ^@`e  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 /X^3=-{8  
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系统构建块 %U5P}  
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组件求解器 &{E`=4T2  
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系统构建块 ~mK-8U4>K,  
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总结 m0|Ae@g~3  
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几何光学仿真 @A2/@]HBm  
通过光线追迹 <AMb!?Obh  
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结果:光线追迹 "7kgez#Y  
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快速物理光学仿真 8 "_Bq  
通过场追迹 r(: 8!=~K  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )W8L91-  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ]{!!7Zz  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 T-9k<,>?  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _0,"vFdj  
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总结 :E>&s9Yj?  
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