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2024-03-21 09:16 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
p\]rxtm 内容简介
x\G<R; Q Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 DuC_uNJ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 b1Ba} 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 C"h7'+Kw @,pn/[
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U8zs=tA 目录 9*CRMkPrd Preface 1 j<L!(6B 内容简介 2 GbC JGqOR 目录 i VB4ir\nF 1 引言 1 `3dGn.M 2 光学薄膜基础 2 }9+Vf'u|l 2.1 一般规则 2 *uF Iw}C/ 2.2 正交入射规则 3 pq]>Ep 2.3 斜入射规则 6 uN$ <7KB" 2.4 精确计算 7 NRe=O*O 2.5 相干性 8 !@
)JqF. 2.6 参考文献 10 >V&GL{ 3 Essential Macleod的快速预览 10 mxCqN1:# 4 Essential Macleod的特点 32 d ?,wEfwp 4.1 容量和局限性 33 =%;TVJk*a 4.2 程序在哪里? 33 X@~R< 4.3 数据文件 35 ^pocbmg 4.4 设计规则 35 QEY#U| 4.5 材料数据库和资料库 37 YUlH5rO3 4.5.1材料损失 38 ;O({|mpS\ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 7t6TB*H 4.5.2 材料库 41 KhyGz"I!@$ 4.5.3导出材料数据 43 HB}iT1.` 4.6 常用单位 43 [iN\R+: 4.7 插值和外推法 46 0-Wv$o[ 4.8 材料数据的平滑 50 j<A; i 4.9 更多光学常数模型 54 0}$R4<"{Y> 4.10 文档的一般编辑规则 55 :2;c@ uj 4.11 撤销和重做 56 XC,by&nY<y 4.12 设计文档 57 -qB{TA-.\ 4.10.1 公式 58 z*/}rk4i 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 F\+!\b*lP 4.10.3 沉积密度 59 WAGU|t#." 4.10.4 平行和楔形介质 60 sTECNY=l 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 va;fT+k= 4.10.4 性能 61 K`kWfPwp 4.10.5 保存设计和性能 64 G5$YXNV 4.10.6 默认设计 64 FC8#XZp 4.11 图表 64 51!#m| 4.11.1 合并曲线图 67 -p20UP 1I 4.11.2 自适应绘制 68 %r:Uff@ 4.11.3 动态绘图 68 WL<f! 4.11.4 3D绘图 69 H`jvT] 4.12 导入和导出 73 2S-z$Bi}] 4.12.1 剪贴板 73 Fr,b5 M<L7 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 lJU]sZ9~b 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 iZ2nBiQ 4.13 背景 77 qmbhx9V 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?qczMck_ 4.15 生成Rugate 84 ;VPYWss 4.16 参考文献 91 5f_1 dn 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 * l-F 5.1 Jobs 92 @}A3ie'w 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Opf^#6'mq 5.3 输入材料 94 WVh]<?GWXk 5.4 设计数据文件夹 95 jN sM&s, 5.5 默认设计 95 X%Ta?(9|.^ 6 细化和合成 97 A{\!nq_~N 6.1 优化介绍 97 O29GPs 6.2 细化 (Refinement) 98 c4FU@^Vv 6.3 合成 (Synthesis) 100 Zex`n:Wl?j 6.4 目标和评价函数 101 8|IlJiJ~v 6.4.1 目标输入 102 O3(H_(P 6.4.2 目标 103 +(##B pC 6.4.3 特殊的评价函数 104 =E:a\r 6.5 层锁定和连接 104 ZgL ]ex 6.6 细化技术 104 a |0f B4G 6.6.1 单纯形 105 h2ou ] 6.6.1.1 单纯形参数 106 O|0} m 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 *uvE`4V^Jg 6.6.2.1 Optimac参数 108 MF4B 2d 6.6.3 模拟退火算法 109 Cg%}= 6.6.3.1 模拟退火参数 109 2M?L++i 6.6.4 共轭梯度 111 u$y5?n| 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 @i@f@.t 6.6.5 拟牛顿法 112 _l&.<nz 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 pL{:8Ed 6.6.6 针合成 113 `'/1Ij+ 6.6.6.1 针合成参数 114 uE,j$d 6.6.7 差分进化 114 ?bl9e&/! 6.6.8非局部细化 115 _Wo(;'. 6.6.8.1非局部细化参数 115 <|4L+?_(& 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ~X1<x4P\ 6.7.1 细化 116 %51HJB}C] 6.7.2 合成 117 8DZ
OPA 6.8 参考文献 117 2B=+p83< 7 导纳图及其他工具 118 ?F@X>zR2 7.1 简介 118 /7yd&6`I 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 r*W&SU9Z 7.2.1 四分之一波长规则 119 Xa/]}
B 7.2.2 导纳图 120 <=PYu:]h 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \Gz
79VW 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ? ]hS^& 7.5 斜入射导纳图 141 zZ{(7Kfz 7.6 对称周期 141 0*8uo
Wt& 7.7 参考文献 142 f&`yiy_ 8 典型的镀膜实例 143 pDG>9P#mO 8.1 单层抗反射薄膜 145 Ky6 d{|H 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 -Oc 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 h
v/+ 8.4 W-膜层 148 c"^g*i2&0 8.5 V-膜层 149 khfWU 8.6 V-膜层高折射基底 150 "!_,N@\t 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 WEk3
4crk 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 -v62 s 8.9 四层抗反射薄膜 153 gl!F)RdH 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 QF9$SCmv 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ,(& | |