培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： 9 &a&O
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课程大纲 "$#X [ .
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第一天： B/ u0^!
• 光学和光线追迹的入门概念 aUUr&yf_L
• ASAP 简介 ?$ T! = e"
• ASAP 数据输入 6fV%[. RR
• 单透镜辐射计示例 7) aitDD
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 bAS('R;4
• 几何规范和通用几何设置 6Tjj++b(*
• 光学特性 h.+{cOA;n
• 光源设置 <J" 7ufHSQ
• 光线追迹 w],+l N;
• 系统分析与评价 X+2 aP'D
• 光线分裂和接收属性 X=$WsfN.h
• ASAP 宏语言 2 ~[f<N
• 散射模型和重点采样 /cM<
• 光线路径 G
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第二天： 8G@I e
散射杂散光： FaS}$-0
• 杂散光术语 [^ sv.
• 杂散光的成因和影响 v%N/mL+5L
• 杂散光分析和评价方法 Uv|z
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• ASAP杂散光分析流程、步骤 jzCSxuZ7O
• 关键和照明表面 e vOy Tvc
• 重点采样位置和大小计算 T*YbmI]4
• 杂散光PST计算 CFdR4vuEI
• 光学表面粗糙、污染和微粒 1UG5Q-
• 表面黑化处理 &s m7R i
鬼像： ]*b}^PQM^
• 鬼像的来源 ?M?S+@(
• ASAP膜层 $ qOV#,@
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 #lDf8G|ST~
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第三天： Hjl{M >z
衍射和红外杂散光： uFxhr2
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• 孔径衍射 X]up5tk ~
• 衍射光学元件的杂散光 [4Tiukk(
• 红外系统杂散光特征 UykOQ-2-n
• 红外热辐射 fT)u`voE,
• 自发辐射杂散光 pe(31%(h
• 红外冷反射 s>y=-7:N
杂散光工程： s%Ez/or(T
• 杂散光的控制方法 oJ|8~:)
• 散射测量 Oa7x(wS
• 杂散光工程流程总结和答疑 9e^HTUFbG
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培训详情 d:KUJ
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培训时间：2024年4月17日-19日 wkSIQL
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培训地点：湖北武汉 Hj&mwn]
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 yL =*yC
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 oy+ `` W~
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培训说明： hCXSC*;
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； `<R; ^qCt
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； o)w8 ]H /
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 > Y7nq\
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； Twscc "mK
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； S 6e<2G=O
提供服务性发票，项目“培训费”。 +<cvyg5U
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报名方式：电话：13396044940
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