培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： {VoHh_[5%  
课程大纲 )dSi/  
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第一天： ;bhT@aB1  
• 光学和光线追迹的入门概念 ;A!BVq  
• ASAP 简介 @s^-.z  
• ASAP 数据输入 |zE'd!7E  
• 单透镜辐射计示例 wlmRe`R  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 pb=h/8R  
• 几何规范和通用几何设置 POR\e|hRT]  
• 光学特性 X[TR3[1}  
• 光源设置 FC"8#*x  
• 光线追迹 ?0xgRe<  
• 系统分析与评价 29q _BR *:  
• 光线分裂和接收属性 5*D/%]YsD  
• ASAP 宏语言 dC4'{n|7  
• 散射模型和重点采样 W*w3[_"sr  
• 光线路径 >-{Hyx  
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第二天： PnG
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散射杂散光： \5cpFj5%  
• 杂散光术语 yR.Ong  
• 杂散光的成因和影响 RzusNS  
• 杂散光分析和评价方法 H 7 ^/q7  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 *_g$MI  
• 关键和照明表面 T9q-,w/j;  
• 重点采样位置和大小计算 KCDE{za  
• 杂散光PST计算 W+1^4::+  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 3DG_QVg^v  
• 表面黑化处理 /|#fejPh  
鬼像： S#[j )U-  
• 鬼像的来源 5ms(Wd  
• ASAP膜层 Ld-_,-n  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 K'I#W lg  
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第三天： S>; 5[l 4  
衍射和红外杂散光： eKqk= (  
• 孔径衍射 5i{j' {_(8  
• 衍射光学元件的杂散光 cPc</[x[W  
• 红外系统杂散光特征 d8x;~RA  
• 红外热辐射 ,wdD8ZT'Ip  
• 自发辐射杂散光 _oDz-  
• 红外冷反射 ;P&OX5~V  
杂散光工程： )sQ*Rd@t[8  
• 杂散光的控制方法 *G9V'9  
• 散射测量 8kDp_si  
• 杂散光工程流程总结和答疑 Pd]|:W< E  
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培训详情 "Os_vlapHo  
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培训时间：2024年4月17日-19日 yJe>JK~)  
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培训地点：湖北武汉 QnX(V[  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 VTHH&$ZNq  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 @2v_pJy^  
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培训说明： @49S`  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； Hl |z</*+  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； QUQ'3  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 %3''}Y5  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； WvZ8/T'x  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； ^&Y#)II  
提供服务性发票，项目“培训费”。 ?p8_AL'RS  
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报名方式：电话：13396044940