培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： ^}~Q(ji7  
课程大纲 *Vl#]81~  
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第一天： P{)D_Bi  
• 光学和光线追迹的入门概念 )(G<(eiD  
• ASAP 简介 # QwX|x{  
• ASAP 数据输入 @FIL4sb  
• 单透镜辐射计示例 #tKks:eL  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 3yRvs;nWS  
• 几何规范和通用几何设置 d=bKNA90  
• 光学特性
PFp!T [)  
• 光源设置 ?-c|c_|$  
• 光线追迹 @2"3RmYLo  
• 系统分析与评价 %EU_OS(u.{  
• 光线分裂和接收属性
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• ASAP 宏语言 ` 1+*-g^r  
• 散射模型和重点采样 .eIs$  
• 光线路径 !LH;K  
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第二天： 4C?{p%3c  
散射杂散光： Xi"9y @  
• 杂散光术语 Mi.2 >  
• 杂散光的成因和影响 SlB`ktcfI  
• 杂散光分析和评价方法 6kp)'wz`  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 YMu#<ZG  
• 关键和照明表面  _:\rB  
• 重点采样位置和大小计算 f.J^HQ_  
• 杂散光PST计算 >
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• 光学表面粗糙、污染和微粒 2T*kmDp  
• 表面黑化处理 s7yKxg+`{  
鬼像： **m8 HD  
• 鬼像的来源 &PPnI(s^K  
• ASAP膜层 gWHY7rv  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 8WDL.IO  
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第三天： 10zM8<bl  
衍射和红外杂散光： 7a9">:~  
• 孔径衍射 U $#^
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• 衍射光学元件的杂散光 hvTc( 0;mB  
• 红外系统杂散光特征 {s@!N  
• 红外热辐射 ;sA 5&a>!  
• 自发辐射杂散光 L$c 1<7LU  
• 红外冷反射 N_:!uR  
杂散光工程： ;s,1/ kA  
• 杂散光的控制方法 vULDKJNHX  
• 散射测量 l1zPL3"u_^  
• 杂散光工程流程总结和答疑 LiHJm-  
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培训详情 ):G+*3yb  
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培训时间：2024年4月17日-19日 A?HDY_u  
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培训地点：湖北武汉 1y[~xxgE  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 tPiC?=4R  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 H)TKk%`7  
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培训说明： ?_{{iil  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； w@WtW8 p^  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； S9:ij1  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 *9KT@"v  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； |LIcq0Z  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； b6e2a/x  
提供服务性发票，项目“培训费”。 uUaDesz~=  
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报名方式：电话：13396044940