培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： 39eoL;O_  
课程大纲  >S/>2e:  
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第一天： *~X\c Z  
• 光学和光线追迹的入门概念 svgi!=  
• ASAP 简介 v1rGq  
• ASAP 数据输入 .{>-.&  
• 单透镜辐射计示例 C`K/ai{4  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 Bqj*{m  
• 几何规范和通用几何设置 5G[^ah<Tg  
• 光学特性 GMI>$$<  
• 光源设置 |u=57II#xK  
• 光线追迹 dGN*K}5  
• 系统分析与评价 Iqv 5lo .  
• 光线分裂和接收属性 |Dli6K
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• ASAP 宏语言 9r}}
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• 散射模型和重点采样 K~G^jAk+  
• 光线路径 ~C+T|  
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第二天： !;oBvE7Kh  
散射杂散光： 2x CGr>X  
• 杂散光术语 i ib-\j4d  
• 杂散光的成因和影响 kY&j~R[C  
• 杂散光分析和评价方法 =*N(8j>y
 
• ASAP杂散光分析流程、步骤 iLei-\w6y  
• 关键和照明表面 d7Z\  
• 重点采样位置和大小计算 l-rI|0D#  
• 杂散光PST计算 J3vuh#  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 NU"X*g-x^  
• 表面黑化处理 K[Kc'6G  
鬼像： ?:c hAN@  
• 鬼像的来源 14O/R3+  
• ASAP膜层 ,P]{*uqGiB  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 ,0O!w>u_]J  
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第三天： A,@"(3  
衍射和红外杂散光： &3MHe$  
• 孔径衍射 j\<S6%p#R  
• 衍射光学元件的杂散光 z841g `:C  
• 红外系统杂散光特征 R8_qZ;t:z  
• 红外热辐射 ?g2K&  
• 自发辐射杂散光 5sRNqTIr  
• 红外冷反射 |RdSrVB  
杂散光工程： l!2.)F`x  
• 杂散光的控制方法 ?Eed#pb_  
• 散射测量 ~j_H2+!  
• 杂散光工程流程总结和答疑 6AY%onY  
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培训详情 @g{ " E6  
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培训时间：2024年4月17日-19日 a&JAF?k  
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培训地点：湖北武汉 l"64w>,  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 @%K 8oYK  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 \%(R~H  
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培训说明： 5 m:nh<)#  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； d)@MMF  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； r+n&Pp+9  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 Pj$a$C`Z  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； afjC~}  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； mdwY48b  
提供服务性发票，项目“培训费”。 tSjK=1"}  
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报名方式：电话：13396044940